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专利号: 2006100220172
申请人: 西南交通大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 测量;测试
更新日期:2024-01-05
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1、一种气体传感器,其组成为:硅基片(1)的背面制作有一杯状空腔(2),杯状空腔(2)的顶部为硅应变膜片(3);硅应变膜片(3)中分布有四个应变电阻(5、6、7、8)并相连构成惠斯通电桥;惠斯通电桥的四个应变电阻(5、6、7、8)的位置分布应使:硅应变膜片(3)没有应变时,惠斯通电桥平衡,硅应变膜片(3)有应变时,惠斯通电桥失衡;硅应变膜片(3)的上表面附着有能够吸收被测气体并发生膨胀形变的聚合物薄膜(4)。

2、 根据权利要求l所述的一种气体传感器,其特征在于:所述的杯状空腔 用MEMS技术制造。

3、 根据权利要求1所述的一种气体传感器,其特征在于:所述的硅应变膜 片(3)的形状是圆形、正方形或矩形中的任一种。

4、 根据权利要求1所述的一种气体传感器,其特征在于:所述的应变电阻 (5、 6、 7、 8)用扩散法或离子注入法制作。

5、 一种气体传感器阵列,其组成为:一块芯片上同时集成两个或两个以上的气体传感器单元,每个气体传感器 单元的构成为:硅基片(1)的背面制作有一杯状空腔(2),杯状空腔(2)的 顶部为硅应变膜片(3); -圭应变膜片(3)中分布有四个应变电阻(5、 6、 7、 8)并 相连构成惠斯通电桥;惠斯通电桥中的四个应变电阻(5、 6、 7、 8)的位置分 布应使:硅应变膜片(3)没有应变时,惠斯通电桥平衡,硅应变膜片(3)有应变 时,惠斯通电桥失衡;硅应变膜片(3)的上表面附着有能够吸收被测气体并发生 膨胀形变的聚合物薄膜(4);不同的气体传感器单元上附着不同的聚合物薄膜 (4)。

6、 根据权利要求5所述的一种气体传感器阵列,其特征在于:所述的杯状 空腔用MEMS技术制造。

7、 根据权利要求5所述的一种气体传感器阵列,其特征在于:所述的硅应 变膜片(3)的形状是圆形、正方形或矩形中的任一种。

8、 根据权利要求5所述的一种气体传感器阵列,其特征在于:所述的应变 电阻(5、 6、 7、 8)用扩散法或离子注入法制成。