1.一种激光透明陶瓷，其特征在于：该激光透明陶瓷的分子式为(NdXY1-X)3(SiZAl1-Z)5O12，其 中X为Nd替代Y的原子百分含量，Z为Si替代Al的原子百分含量。

2.根据权利要求1所述的激光透明陶瓷，其特征在于：X的取值范围为0.01～0.04，Z＝ 0.279X。

3.根据权利要求2所述的激光透明陶瓷，其特征在于：该激光透明陶瓷的激光工作波长为 1.065微米，该激光透明陶瓷和相同化学组成的单晶相比，激光量子效率提高了40～41％。

4.根据权利要求3所述的激光透明陶瓷，其特征在于：厚度为1mm的激光透明陶瓷在近红 外波段的光透过率为80～81％。

5.一种根据权利要求1～4任一项所述激光透明陶瓷的制备方法，其特征在于：该制备方法由 以下工艺步骤所组成：①粉末合成：按照(NdXY1-X)3(SiZAl1-Z)5O12分子式量取氧化钕和氧化钇，分别用微过量的硝 酸溶解这两种金属氧化物，蒸发掉残留在体系中的硝酸，加入去离子水形成金属硝酸盐溶液， 用去离子水溶解硝酸铝和柠檬酸，形成溶液，将金属硝酸盐溶液和柠檬酸溶液进行混合均匀， 加入乙二醇，反应0.5小时后滴加化学式量的正硅酸已酯作为陶瓷烧结添加剂，滴加氨水调 节溶液的pH值，磁力加热搅拌反应2小时，得到微黄色透明干凝胶，加热使其发生低温燃 烧，得到灰色疏松状粉末，将灰色粉末行星式球磨1小时，然后在800℃热处理2小时后再 球磨10～16小时，将球磨后的粉末于800℃热处理2～5小时除去有机成分，得到疏松状陶 瓷粉末；

②粉末压结：用普通模压成型方式，将白色粉末装入磨具中，采用双面加压的方式，成型的 压力为100～400MPa，压制出尺寸为的陶瓷素坯片；

③陶瓷烧结：采用放电等离子烧结炉，以100～200℃/分升温速率快速升高到1400～1500℃， 保温5～10分钟，真空度为10-2～10-3Pa，随后进行自然降温，得到激光透明陶瓷片；

④光学冷加工：将经过放电等离子烧结出的透明陶瓷片进行双面镜面磨抛，磨抛达到旧标准 光洁度14级，制备出尺寸为1mm厚的激光透明陶瓷片；

⑤性能测量：采用紫外～近红外分光光度计测量厚度为1mm的激光透明陶瓷的光透过率； 采用傅立叶变换荧光光谱仪测量激光透明陶瓷的光荧光图谱，确定工作波长以及计算出激光 透明陶瓷的激光量子效率。

6.根据权利要求5所述的激光透明陶瓷的制备方法，其特征在于：球磨时采用的球磨介质为 不同尺寸的氧化锆球，球磨罐为聚氨酯材料。

7.根据权利要求6所述的激光透明陶瓷的制备方法，其特征在于：行星式球磨时加入乙醇作 为分散介质。

8.根据权利要求7所述的激光透明陶瓷的制备方法，其特征在于：采用不同尺寸的金刚石砂 对激光透明陶瓷进行双面镜面抛光。