1、一种烧结钕铁硼永磁材料化学抛光液，其特征在于该抛光液是以水为溶剂，溶 液包括硝酸    400～900ml/L

磷酸    5～40ml/L

硫酸    5～40ml/L。

2、根据权利要求1所述的烧结钕铁硼永磁材料化学抛光液，其特征在于所述硝酸 的浓度为700～900ml/L；所述的磷酸浓度为10～20ml/L；所述的硫酸浓度为10～20 ml/L。

3、根据权利要求1所述的烧结钕铁硼永磁材料化学抛光液，其特征在于所述的化 学抛光液的温度是25～80℃。

4、根据权利要求3所述的烧结钕铁硼永磁材料化学抛光液，其特征在于所述的化 学抛光液的最佳温度是55～70℃。

5、一种烧结钕铁硼永磁体化学抛光处理方法，其特征在于包括下述步骤：①将钕铁硼永磁体进行碱洗脱脂；

②将烧结钕铁硼永磁体浸入化学抛光液中抛光，所述的化学抛光液以水为溶剂， 溶质为硝酸、磷酸和硫酸，使抛光液中硝酸的浓度为400～900ml/L、磷酸的浓度为5～ 40ml/L、硫酸的浓度为5～40ml/L；在化学抛光时，烧结钕铁硼磁体需要翻动，其浸蚀 抛光时间为10～120s；

③将化学抛光后的钕铁硼永磁体清洗、活化。

6、根据权利要求5所述的烧结钕铁硼永磁体化学抛光处理方法，其特征在于：所述 的抛光时间为60s～90s。

7、根据权利要求5所述的烧结钕铁硼永磁体化学抛光处理方法，其特征在于：在化 学抛光时，钕铁硼永磁体的翻动为间歇翻动，时间间隔为1～3s。

8、据权利要求5所述的烧结钕铁硼永磁体化学抛光处理方法，其特征在于：步骤③ 中的活化分两步进行，a)采用稀硝酸溶液去除氧化膜；硝酸浓度1～6v％，室温下活化 时间30～60s；b)在柠檬酸三钠溶液中活化，柠檬酸三钠浓度2～6wt％，在室温下活化 60～600s。

9、根据权利要求5所述的烧结钕铁硼永磁体化学抛光处理方法，其特征在于，活 化前、后均进行超声波水洗。

10、根据权利要求5所述的烧结钕铁硼永磁材料化学抛光液，其特征在于所述硝酸 的浓度为700～900ml/L；所述的磷酸浓度为10～20ml/L；所述的硫酸浓度为10～20 ml/L；所述抛光液的温度为25～80℃。