1.一种菱沸石的制备方法，其特征是采用异相T型沸石为晶种诱导在不添加有机模板剂的条件下形成菱沸石，其制备按如下步骤：(1)以硅溶胶为硅源，偏铝酸钠或氢氧化铝为铝源，氢氧化钾和氢氧化钠作为碱原料，配制原料液SiO2-Al2O3-K2O-Na2O-H2O体系，各组份+ + -摩尔比为：SiO2/Al2O3＝10～25，H2O/SiO2＝10～16，Na/K ＝0.1～0.8，OH/SiO2＝

0.85～1.2；(2)配制好的原料液加入0.1～5wt％T型沸石晶种，倒入不锈钢反应釜中，在

80～180℃下水热合成6～48小时；(3)反应完成后，用100℃去离子水煮沸，洗去表面碱液，抽滤，pH洗至7，在100℃下干燥12小时。

2.一种菱沸石膜的制备方法，其特征是采用菱沸石晶种涂敷在多孔支撑体外表面，诱导形成一层连续致密的菱沸石晶体层，其制备按如下步骤进行：(1)晶种化支撑体：管状多孔莫来石或不锈钢或氧化铝支撑体经打磨、超声清洗和干燥，将权利要求1中合成的菱沸3

石晶体通过机械力作用将晶体粘附在支撑体表面，晶种的负载密度在0.5～2mg/cm ；(2)溶胶液配制：以氢氧化铝或偏铝酸钠为铝源，硅粉为硅源，加入到在氢氧化钠和氢氧化钾的-混合碱液，溶胶的配比按氧化物的摩尔比计为：SiO2/Al2O3＝10～30，OH/SiO2＝0.9～+ +

1.5，Na/K ＝0.1～1，H2O/SiO2＝18～40；(3)水热合成：溶胶在20～60℃老化12～

48小时后倒入反应釜，竖直放入步骤(1)处理的支撑体，在80～180℃下水热合成12～

120小时，反应物固液相有明显分层，膜取出后，用去离子水反复冲洗，并浸泡12小时，烘干备用。

3.根据权利要求1所述的菱沸石的制备方法，其特征是采用异相晶核T型沸石为晶种，晶种的尺寸大小为50～200纳米，添加量为0.2～4wt％。

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4.根据权利要求2所述的菱沸石膜的制备方法，其特征是采用物质摩尔比OH/SiO2＝

0.9～1.3。

5.根据权利要求2所述的菱沸石膜的制备方法，其特征是采用物质摩尔比H2O/SiO2＝

20～35。

6.根据权利要求2所述的菱沸石膜的制备方法，其特征是水热反应温度为100～

160℃，水热合成16～72小时。