1.一种石墨基体表面上化学镀钴的方法，其特征在于所述方法为：石墨基体依次用碱液除油、酸液粗化、敏化液敏化、活化液活化、还原液还原处理后，得到预处理的石墨基体；

将预处理的石墨基体浸入80～90℃的化学镀钴液中，静置反应15～120s，取出后用去离子水清洗至中性，得到表面化学镀钴的石墨基体；

所述敏化液组成终浓度为：氯化亚锡10～15g/L，溶剂为水，盐酸调pH值为0.5～2；

所述活化液组成终浓度为：氯化钯0.5～1g/L，37%盐酸5～10mL/L，溶剂为水；

所述还原液组成终浓度为：次亚磷酸钠15～20g/L，溶剂为水；所述化学镀钴液组成终浓度为：氯化钴25～30g/L，次亚磷酸钠25～30g/L，柠檬酸三钠55～60g/L，硼酸25～

30g/L，氯化铵45～50g/L，溶剂为去离子水，氨水调pH值为9～10。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于所述石墨基体为块状石墨基体。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于所述碱液为NaOH溶液。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于所述碱液除油在40kHz频率的超声波下进行。

5.如权利要求1所述的方法，其特征在于所述的酸液为HNO3溶液。

6.如权利要求1所述的方法，其特征在于所述方法包括以下步骤：（1）石墨基体在40～45℃，40kHz频率的超声波下用70～80g/L的NaOH溶液清洗3～

4h，然后用去离子水洗涤至中性，得到除油后的石墨基体；

（2）除油后的石墨基体在室温下，40kHz频率超声波下用68%HNO3溶液清洗1～2h，静置24～48h后用去离子水洗涤至中性，得到粗化后的石墨基体；

（3）粗化后的石墨基体在室温搅拌下用敏化液敏化30～60min后用去离子水洗涤至中性，得到敏化后的石墨基体；

（4）敏化后的石墨基体在55～65℃下用活化液活化30～60min后用去离子水洗涤至中性，得到活化后的石墨基体；

（5）活化后的石墨基体在室温下，还原液中还原静置1～3min后用去离子水洗涤至中性，得到预处理的石墨基体；

（6）预处理的石墨基体浸入80～90℃的化学镀钴液中，静置反应15～120s，取出后用去离子水清洗至中性，得到表面化学镀钴的石墨基体。

7.如权利要求1所述的方法，其特征在于所述方法包括以下步骤：（1）石墨基体在40℃，40kHz频率的超声波下用80g/L的NaOH溶液清洗3h，然后用去离子水洗涤至中性，得到除油后的石墨基体；

（2）除油后的石墨基体在室温下，40kHz频率超声波下用68%HNO3溶液清洗2h，静置24h后用去离子水洗涤至中性，得到粗化后的石墨基体；

（3）粗化后的石墨基体在室温搅拌下用敏化液敏化30min后用去离子水洗涤至中性，得到敏化后的石墨基体；

（4）敏化后的石墨基体在60℃下用活化液活化30min后用去离子水洗涤至中性，得到活化后的石墨基体；

（5）活化后的石墨基体在室温下，还原液中还原静置1～3min后用去离子水洗涤至中性，得到预处理的石墨基体；

（6）预处理的石墨基体浸入80～90℃的化学镀钴液中，静置反应120s，取出后用去离子水清洗至中性，得到表面化学镀钴的石墨基体。