1.火棉胶薄膜的图形化方法，其特征在于：包括以下步骤：

1）在火棉胶薄膜上沉积一种容易腐蚀的掩模层；

2）采用光刻、显影的方法在掩模层上面制作所需图形的光刻胶图形；

3）采用化学溶液腐蚀的方法腐蚀掩模层，获得所需图形的掩模层图形；

4）利用丙酮腐蚀去除掩模层上面的光刻胶以及没有掩模层部分的火棉胶薄膜，再利用掩模层腐蚀液去除剩余的掩模层，获得火棉胶所需的图形；

所述步骤1）中的掩模层材料是不溶于光刻胶、显影液以及水的金属或氧化物；

所述步骤2）中的光刻技术是指光学曝光或电子束曝光方法；

所述步骤4）中的图形的横向尺寸小于100nm。