1.一种用于铪基材料的化学机械抛光用纳米抛光液，其特征在于：由氟硼酸盐、纳米磨料、表面活性剂、无机酸和溶剂去离子水组成，各组分的质量百分比为：氟硼酸盐

0.1-2wt%、纳米磨料5-30wt%、表面活性剂0.01-2.0wt%、无机酸调节抛光液pH值至3-7、溶剂去离子水为余量。

2.根据权利要求1所述铪基材料的化学机械抛光用纳米抛光液，其特征在于：所述氟硼酸盐为氟硼酸钾、氟硼酸钠或氟硼酸铵。

3.根据权利要求1所述铪基材料的化学机械抛光用纳米抛光液，其特征在于：所述纳米磨料为二氧化铈（CeO2）、二氧化硅（SiO2）、氧化铬（Cr2O3）和氮化硼（BN）中的一种或两种任意比例的混合物，其平均粒径小于100nm。

4.根据权利要求1所述铪基材料的化学机械抛光用纳米抛光液，其特征在于：所述表面活性剂为聚乙二醇-400、脂肪醇聚环氧乙烯醚和聚环氧乙基烷烷基醇酰胺中的一种或两种任意比例的混合物。

5.根据权利要求1所述铪基材料的化学机械抛光用纳米抛光液，其特征在于：所述无机酸为盐酸与磷酸或硫酸的混合液，盐酸与磷酸或硫酸的体积比为5:1-5。

6.一种如权利要求1所述铪基材料的化学机械抛光用纳米抛光液的制备方法，其特征在于：将氟硼酸盐、纳米磨料、表面活性剂、无机酸和溶剂去离子水按比例混合均匀即可。

7.一种如权利要求1所述铪基材料的化学机械抛光用纳米抛光液的应用，其特征在于：所述铪基材料为HfOx、HfON、HfSixOy、HfSiON、HfTiON、HfTaON和HfSiAlON中的一种或两种任意比例的组合，抛光速率可达100-200nm/min。

8.一种如权利要求1所述铪基材料的化学机械抛光用纳米抛光液的配制方法，其特征在于：加入0.5wt%的氟硼酸钾，10wt% 30nm-BN和5wt% 100nm-CeO2的混合磨料，1wt%的聚环氧乙基烷烷基醇酰胺，利用盐酸/磷酸体积比为1:1调节抛光液pH值为6，余量为去离子水。