1.一种分等级单斜相ZrO2纳米片的制备方法，其特征是：采用直接氧化刻蚀ZrB2陶瓷的方法，并通过一系列化学反应，原位自组装生成分等级单斜相ZrO2纳米片；该制备方法包括如下步骤：1）选取ZrB2作为锆源，以热分解可产生氧气的物质作为氧源，以强腐蚀性氢氟酸作为辅助材料；2）配置氧源溶液，并添加表面活性剂，充分搅拌溶解；3）称取ZrB2陶瓷粉和钇盐，分别加入到上述溶液中；4）然后添加强腐蚀性氢氟酸，充分搅拌后，转移到特氟龙内衬的反应釜中进行水热反应；5）反应结束后，将产物过滤，用去离子水和乙醇清洗，并在烘箱中干燥；6）将干燥的产物热处理后得到最终单斜相ZrO2纳米片；

所述的水热温度为120~200 ℃，水热时间为12~48 h；所述的去离子水清洗温度为

50~80 ℃，洗涤次数为3-5次；所述的乙醇清洗为常温清洗，洗涤次数为1-3次；所述的干燥的温度为60~80 ℃，干燥时间大于5 h；所述的热处理温度为450~650 ℃，热处理时间为

3~5 h。

2.根据权利要求1所述的一种分等级单斜相ZrO2纳米片的制备方法，其特征是：原材料包括ZrB2陶瓷粉、氢氟酸、氧源、钇源、表面活性剂，均为分析纯；所述的氢氟酸浓度为

40%。

3.根据权利要求2所述的一种分等级单斜相ZrO2纳米片的制备方法，其特征是：所述的氧源包括过氧化氢H2O2和氯酸钾KClO3；

所述的氧源为H2O2时，原材料摩尔比为ZrB2 : H2O2 : HF = 1 : (5~5.5) : (8~8.5)，H2O2和HF适当过量；

所述的氧源为KClO3时，原材料摩尔比为ZrB2 : KClO3 : HF = 3 : (5~5.5) : (24~24.5)，KClO3和HF适当过量。

4.根据权利要求2所述的一种分等级单斜相ZrO2纳米片的制备方法，其特征是：所述的钇源包括硝酸钇Y(NO3)3·6H2O和氯化钇YCl3·6H2O；所述的钇添加量为ZrB2用量的3~5 %，所述的ZrB2用量的3~5 %为摩尔百分比。

5.根据权利要求2所述的一种分等级单斜相ZrO2纳米片的制备方法，其特征是：所述的表面活性剂包括三嵌段表面活性剂F127、P123、乙二胺和十六烷基三甲基溴化铵；所述的表面活性剂的加入量为ZrB2用量0.05-2%，所述的ZrB2用量0.05-2%为摩尔百分比。