1.一种采用混合模板制备埃博霉素分子印迹聚合物膜的方法，其特征在于，包括以下步骤：

1)将埃博霉素B与埃博霉素D按(0.5～2):(1～2)的摩尔比混合后，得到模板分子，向模板分子中加入功能单体，得到配合物，再向配合物中加入交联剂，充分混匀，形成混合物；将该混合物加入致孔剂中，在超声条件下混匀后，在室温下静置1～3h，再加入引发剂，混匀得到混合液；

其中，所述的功能单体为丙烯酸、甲基丙烯酸、甲基丙烯酸甲酯、苯乙烯及其衍生物、乙烯基吡啶、乙烯基吡咯烷酮或三甲基烯丙基氯化铵；

所述的交联剂为乙二醇二甲基丙烯酸酯、亚甲基双丙烯酰胺、三甲基丙烷三甲基丙烯酸酯或二乙烯甲苯；

所述的混合物中模板分子、功能单体和交联剂的摩尔比为1:(2～6):(10～30)；所述致孔剂的用量为20～25mL/1mmol模板分子，引发剂的用量为10～15mg/1mmol模板分子；

2)将基体膜浸入混合液中浸泡20～30min后，取出置于两个玻璃片之间，排除气泡后放入密封袋中，通入氮气10～15min后密封，再进行紫外照射，然后将玻璃片分离，得到埃博霉素分子印迹聚合物膜。

2.根据权利要求1所述的一种采用混合模板制备埃博霉素分子印迹聚合物膜的方法，其特征在于，还包括对埃博霉素分子印迹聚合物膜的纯化处理，具体为：将制得的埃博霉素分子印迹聚合物膜在乙酸:甲醇的体积比为2:(6～9)的混合液中索式萃取数次，再用甲醇萃取数次后，干燥，得到纯净的埃博霉素分子印迹聚合物膜。

3.根据权利要求2所述的一种采用混合模板制备埃博霉素分子印迹聚合物膜的方法，其特征在于，所述的索氏萃取次数为3～5次，每次8～12小时；甲醇萃取1～2次；所述的干燥是在40～60℃下，真空干燥过夜。

4.根据权利要求1～3中任意一项所述的一种采用混合模板制备埃博霉素分子印迹聚合物膜的方法，其特征在于，步骤1)所述的致孔剂为乙腈、氯仿、异丙醇、聚丙烯酰胺、甲苯、石蜡、明胶或四氯化碳。

5.根据权利要求1～3中任意一项所述的一种采用混合模板制备埃博霉素分子印迹聚合物膜的方法，其特征在于，步骤1)所述的引发剂为偶氮二异丁腈或过硫酸铵。

6.根据权利要求1～3中任意一项所述的一种采用混合模板制备埃博霉素分子印迹聚合物膜的方法，其特征在于，其特征在于，步骤1)所述的超声处理是在超声频率为20000～

60000Hz下，处理10～30min。

7.根据权利要求1～3中任意一项所述的一种采用混合模板制备埃博霉素分子印迹聚合物膜的方法，其特征在于，步骤2)所述的基体膜为聚乙烯膜、聚丙烯膜、醋酸纤维素膜、聚丙烯腈膜、尼龙膜、聚偏氟乙烯膜或聚氯乙烯膜。

8.根据权利要求1～3中任意一项所述的一种采用混合模板制备埃博霉素分子印迹聚合物膜的方法，步骤2)所述的紫外灯照射是采用400W的紫外灯照射10～16h。

9.根据权利要求1～3中任意一项所述的一种采用混合模板制备埃博霉素分子印迹聚合物膜的方法，其特征在于，步骤2)所述的基体膜在使用前经过预处理，具体为：将基体膜在体积浓度为30～90％的N，N，N′，N′-四甲基乙二胺水溶液中浸泡0.5～1.5h，取出后置于30～70℃真空干燥箱中，干燥2～4h。