1.一种单反射-环式喷嘴撞击流结构，其特征在于:包括管径不同的主进料管(1.3)和套管(1.4)以及挡板(1.7)，套管(1.4)的管径大于主进料管(1.3)的管径，套管(1.4)套于主进料管(1.3)之外，主进料管(1.3)远离挡板(1.7)的一端设置主进料管进料口(1.1)、靠近挡板(1.7)的另一端设置扩口型主进料管喷嘴(1.5)，主进料管喷嘴(1.5)端部中心开有出料孔，套管(1.4)对应主进料管进料口的一端也设置有套管进料口(1.2)，套管对应主进料管喷嘴的另一端开口、套管开口端部与主进料管喷嘴端部形成环缝(1.6)，出料孔与环缝设置于同一平面，挡板(1.7)相对于主进料管以及套管的轴线方向垂直设置，挡板中心位于主进料管以及套管的轴线上。

2.根据权利要求1所述的单反射-环式喷嘴撞击流结构，其特征在于套管直径(屯)与主进料管直径(d2)的比值为1.5〜20，套管长度(L1)与套管直径(Cl1)比值为1(Γ50，主进料管长度(L2)大于套管长度(L1),主进料管出料孔到挡板的距离(d3)与主进料管出料孔直径(D2)之比为广50，主进料管的内径(d2)与出料孔直径(D2)比为1飞0，套管直径(Cl1)与环缝宽度(D1)比值为I〜100。

3.根据权利要求1或2所述的单反射-环式喷嘴撞击流结构，其特征在于挡板(1.7)为圆形或方形，挡板(1.7)相对主进料管(1.3)和套管(1.4)可旋转设置或者与主进料管(1.3)和套管(1.4)连接，挡板(1.7)为向外凸起，挡板(1.7)表面粗糙。

4.一种旋转填料床装置，包括旋转填料床以及如权利要求3所述的单反射-环式喷嘴撞击流结构，旋转填料床包括填料(2 )、转轴(3 )、转子(4)、壳体(5 )以及液体出口( 6 )，其特征在于:所述的单反射-环式喷嘴撞击流结构(I)设置于转子(4)的空腔内并沿转子轴线方向设置，主进料管喷嘴以及环缝(1.6)与挡板之间的中心线位于转子(4)空腔的中央，转子(4)位于壳体(5)的中部；填料(2)在转子空心圆环中；液体出口(6)在壳体(5)的底部；转轴(3)通过与电机相连带动转子(4)转动。

5.根据权利要求1所述的旋转填料床装置，其特征在于转子内径(d4)与套管直径(Cl1)比为1〜5。

6.根据权利要求1所述的旋转填料床装置，其特征在于量多的反应物料从主进料管进料，而量少的反应物料从套管进料，主进料管和套管的进料溶液体积比为广15，反应物料的粘度为2〜300mPa.S。