1.一种采用纳米聚集结构磨料的固定磨料抛光布，其特征在于：由抛光布基材及均匀分布于抛光布基材中的磨料构成，该固定磨料为纳米聚集结构磨料，该纳米聚集结构磨料为由纳米子粒子聚集而成的微米级球形磨料。

2.根据权利要求1所述的采用纳米聚集结构磨料的固定磨料抛光布，其特征在于：所述的抛光布基材为聚氨酯等粘弹性材料。

3.根据权利要求1所述的采用纳米聚集结构磨料的固定磨料抛光布，其特征在于：所述的抛光布的固定磨料添加率为6voL％-50vol％，气孔率10vol％-50vol％。

4.根据权利要求1所述的采用纳米聚集结构磨料的固定磨料抛光布，其特征在于：所3

述的纳米聚集结构磨料的纳米子粒子的粒径为1-80nm，以细孔容积为0.1-5cm/g的聚集密度聚集成粒径为1-20um左右的微米级球形磨料。

5.根据权利要求1所述的采用纳米聚集结构磨料的固定磨料抛光布，其特征在于：所述的纳米聚集结构磨料的超微细孔的孔径为1-80nm。

6.根据权利要求1所述的采用纳米聚集结构磨料的固定磨料抛光布，其特征在于：所述的纳米聚集结构磨料为纳米聚集氧化硅磨料、纳米聚集氧化铝磨料、纳米聚集氧化铈磨料或多晶金刚石磨料等。

7.根据权利要求1所述的采用纳米聚集结构磨料的固定磨料抛光布，其特征在于：所述的纳米聚集氧化硅磨料中还含有碱性纳米材料。

8.根据权利要求7采用纳米聚集结构磨料的固定磨料抛光布，其特征在于：所述的碱性纳米材料为KOH等无机碱，或对二氮己环或胺类化合物等的有机碱。