1.一种平面轮廓轨迹跟踪控制方法，其特征在于：包括如下步骤：

步骤一、根据待跟踪的X轴与Y轴轮廓轨迹位置函数sX与sY，建立平面轮廓轨迹跟踪控制状态空间数学模型，为方程一：其中，符号“t”表示时间变量；状态向量x＝[x1 x2 x3 x4]T，变量x1表示X轴跟踪距离，变量x2表示X轴跟踪速度，变量x3表示Y轴跟踪距离，变量x4表示Y轴跟踪速度，符号“T”表示向量的转置；控制输入向量u＝[u1 u2]T，变量u1＝EX-(sX+τXaX)/kX和u2＝EY-(sY+τYaY)/kY，常量τX和τY分别是X轴和Y轴电机的时间常数，常量kX和kY分别是X轴和Y轴电机的增益常数，变量EX和EY分别是X轴和Y轴电机的输入电压，变量aX和aY分别是X轴和Y轴的跟踪加速度；参数矩阵步骤二、根据方程一，求解如下的Riccati矩阵方程二：

T T

AP+PA-aPBBP＝-I

得4×4维的对称正定矩阵解P，其中，系数a为正常数；

步骤三、根据方程一和对称正定矩阵解P，设计平面轮廓轨迹跟踪控制器，为方程三：其中，系数 为可调参数；为满足控制器的稳定性，要求

步骤四、根据方程三，计算X轴和Y轴电机的输入电压

EX＝[1 0]u+(sX+τXaX)/kX

；

EY＝[0 1]u+(sY+τYaY)/kY

步骤五、在线测量X轴和Y轴的跟踪距离、跟踪速度和跟踪加速度，根据方程三实时计算跟踪控制量u，再根据方程四得到X轴和Y轴电机的输入电压，驱动X轴和Y轴跟踪平面轮廓轨迹位置函数sX与sY。

2.根据权利要求1所述的一种平面轮廓轨迹跟踪控制方法，其特征在于：所述平面轮廓轨迹跟踪控制方法的具体实施过程包括以下阶段：阶段一、参数设置，包括模型参数和控制器参数，在模型参数导入中，根据数控机床X轴和Y轴电机的参数，输入方程一中参数矩阵A和B的值；在控制器参数设置中，输入轮廓轨迹位置函数sX与sY，以及常数a＞0，输入参数确认后，由控制计算机将设置数据送入计算机存储单元RAM中保存；

阶段二、离线调试，调整可调参数 观察X轴和Y轴跟踪距离与电机输入电压的控制效果，由此确定一个能良好实现轮廓轨迹跟踪控制的参数 参数 的调整规则：增大 将加快轨迹跟踪的响应速度，但增加轨迹跟踪响应的超调量，同时增加电机的输入电压；相反，减小 将平缓轨迹跟踪的响应速度，减小电机的输入电压，但延长轨迹跟踪的调整时间，因此，实际调试参数 时，应权衡轨迹跟踪的响应能力、超调量、调整时间和电机输入电机之间的综合性能；

阶段三、在线运行，启动主控制计算机的CPU读取模型参数、轮廓轨迹位置函数和控制器参数，通过在线测量X轴和Y轴的跟踪距离、跟踪速度和跟踪加速度，计算X轴和Y轴电机的输入电压，驱动X轴和Y轴跟踪轮廓轨迹位置函数；在下一个控制周期时，在线测量X轴和Y轴的跟踪距离、跟踪速度和跟踪加速度，之后重复整个执行过程；如此周而复始，实现数控机床高速、高精度的稳定化平面轮廓轨迹跟踪控制。