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专利号: 2014105800709
申请人: 吴长江
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 水、废水、污水或污泥的处理
更新日期:2024-02-23
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种含氰含铬电镀废水处理方法,其特征在于,包括如下步骤:S110:分别收集一般电镀废水、含氰电镀废水和含铬电镀废水;

S120:往所述一般电镀废水加入絮凝剂,进行絮凝处理,接着,进行沉淀处理,固液分离后,将上层清液进行吸附,反渗透处理;

S130:往所述含氰电镀废水加入碱性物质、次氯酸钠和酸性物质,进行破氰处理,得到预处理含氰电镀废水,将所述预处理含氰电镀废水通入一般电镀废水,得到综合电镀废水,其中,所述碱性物质为氢氧化钠和氢氧化钙中的至少一种,所述酸性物质为盐酸和硫酸中至少一种;

S140:将所述综合电镀废水按所述步骤S120处理;

S150:将所述含铬电镀废水进行除铬处理,得到预处理含铬电镀废水;

S160:将所述含铬电镀废水按所述步骤S120处理。

2.根据权利要求1所述的含氰含铬电镀废水处理方法,其特征在于,所述絮凝剂为聚合氯化铝。

3.根据权利要求1所述的含氰含铬电镀废水处理方法,其特征在于,所述絮凝剂为聚丙烯酰胺。

4.根据权利要求1所述的含氰含铬电镀废水处理方法,其特征在于,所述絮凝剂为聚合氯化铝和聚丙烯酰胺的混合物。

5.一种含氰含铬电镀废水处理装置,其特征在于,包括电镀废水储存槽、破氰槽、除铬槽、絮凝槽、沉淀槽、吸附槽以及反渗透处理装置;

所述电镀废水储存槽包括第一储存槽、第二储存槽以及第三储存槽,所述第一储存槽与所述破氰槽连通,所述破氰槽与所述第三储存槽连通,所述第二储存槽与所述除铬槽连通,所述絮凝槽与所述第三储存槽及所述除铬槽均连通,所述絮凝槽与所述沉淀槽连通,所述吸附槽与所述沉淀槽连通,所述反渗透处理装置与所述吸附槽连通;

所述破氰槽设置第一添加装置、第二添加装置以及第三添加装置,分别用于碱性物质、次氯酸钠和酸性物质。

6.根据权利要求5所述的含氰含铬电镀废水处理装置,其特征在于,所述破氰槽设置有第一加药口。

7.根据权利要求5所述的含氰含铬电镀废水处理装置,其特征在于,所述除铬槽设置有第二加药口。

8.根据权利要求5所述的含氰含铬电镀废水处理装置,其特征在于,所述絮凝槽设置有第三加药口。

9.根据权利要求5所述的含氰含铬电镀废水处理装置,其特征在于,电镀废水储存槽为一体成型结构。

10.根据权利要求5所述的含氰含铬电镀废水处理方法,其特征在于,所述沉淀槽的底部侧壁为斜面结构。