1.一种电镀废水处理方法，其特征在于，包括如下步骤：S110：收集一般电镀废水、含氰电镀废水和含铬电镀废水；

S120：将所述一般电镀废水分别进行絮凝处理、沉淀处理，固液分离后，将所述上层清液进行吸附及反渗透处理；

S130：将所述含氰电镀废水的pH调至10.5～11，并进行破氰处理，得到预处理含氰电镀废水，将所述预处理含氰电镀废水通入一般电镀废水，得到综合电镀废水；

S140：将所述综合电镀废水按所述步骤S120处理；

S150：往所述含铬电镀废水中依次进入硫酸、亚硫酸钠和碱性物质，进行除铬处理，得到预处理含铬电镀废水；

S160：将所述含铬电镀废水按所述步骤S120处理。

2.一种电镀废水处理装置，其特征在于，包括电镀废水贮存槽、破氰槽、除铬槽、絮凝槽、沉淀槽、吸附槽以及反渗透处理装置；

所述电镀废水贮存槽包括第一贮存槽、第二贮存槽以及第三贮存槽，所述第一贮存槽与所述破氰槽连通，所述破氰槽与所述第三贮存槽连通，所述第二贮存槽与所述除铬槽连通，所述絮凝槽与所述第三贮存槽及所述除铬槽均连通，所述絮凝槽与所述沉淀槽连通，所述吸附槽与所述沉淀槽连通，所述反渗透处理装置与所述吸附槽连通；

所述除铬槽设置第一添加装置、第二添加装置以及第三添加装置，分别用于添加硫酸、亚硫酸钠和碱性物质。

3.根据权利要求2所述的电镀废水处理装置，其特征在于，所述破氰槽设置有第一加药口。

4.根据权利要求2所述的电镀废水处理装置，其特征在于，所述除铬槽设置有第二加药口。

5.根据权利要求2所述的电镀废水处理装置，其特征在于，所述絮凝槽设置有第三加药口。

6.根据权利要求2所述的电镀废水处理装置，其特征在于，电镀废水贮存槽为一体成型结构。

7.根据权利要求2所述的电镀废水处理装置，其特征在于，所述沉淀槽的底部侧壁为斜面结构。

8.根据权利要求2所述的电镀废水处理装置，其特征在于，所述破氰槽设置有第一搅拌装置。

9.根据权利要求2所述的电镀废水处理装置，其特征在于，所述除铬槽设置有第二搅拌装置。

10.根据权利要求2所述的电镀废水处理装置，其特征在于，所述絮凝槽设置有第三搅拌装置。