1.用于颗粒力链观测的磨粒约束装置，其特征在于：包括上透明层、下透明层、夹在上下透明层之间的中层磨粒约束模块、多个用于测定磨粒受力状态的应力传感器、控制器，所述的中层磨粒约束模块包括用于容纳光弹颗粒的腔体、挡板、施力机构，所述的腔体侧面带有缺口；所述的挡板安装在所述的腔体缺口处；所述的腔体底部装有用于挤压光弹颗粒的施力机构，所述的施力机构的挤压部贯穿所述的腔体的底板后与光弹颗粒接触；所述的上透明板、下透明板、施力机构的挤压部、所述的腔体以及所述的挡板共同围成容纳光弹颗粒的中层封闭容纳腔；所述的中层磨粒约束模块配置多个应力传感器，所述的应力传感器与所述的控制器的信号输入端相连、所述的施力机构与所述的控制器的信号输出端相连。

2.如权利要求1所述的用于颗粒力链观测的磨粒约束装置，其特征在于：所述的中层磨粒约束模块位于所述的上透明层与下透明层的中心。

3.如权利要求2所述的用于颗粒力链观测的磨粒约束装置，其特征在于：所述的腔体为U型支架，U型支架的两个延伸臂上端设有第二滑槽，并且所述的第二滑槽分别装有与第二滑槽匹配的第二滑块，所述的挡板的两端分别固接在所述的第二滑块上，并且所述的挡板随第二滑块的移动和转动进行扭转，使得挡板呈现下凹和上凸两个状态，其中第二滑槽的中心轴与腔体的中心轴平行。

4.如权利要求2所述的用于颗粒力链观测的磨粒约束装置，其特征在于：所述的施力机构包括固接在腔体底部的连杆、由伺服电机驱动的转盘、第一滑块，所述的连杆设有第一滑槽，转盘的安装轴与第一滑块固定，随第一滑块沿第一滑槽运动，其中第一滑槽的中心轴与腔体的中心轴平行，伺服电机与控制器的信号输出端连接。

5.如权利要求4所述的用于颗粒力链观测的磨粒约束装置，其特征在于：所述的第一滑槽与腔体底部之间的最小距离小于所述的转盘的半径。

6.如权利要求4所述的用于颗粒力链观测的磨粒约束装置，其特征在于：所述的挡板内表面配有表层应力传感器、所述的腔体的内侧面配有内层应力传感器、所述的第一滑块配有外层应力传感器，并且所述的表层应力传感、内层应力传感器、外层应力传感器分别与控制器相应的输入端连接。

7.如权利要求5所述的用于颗粒力链观测的磨粒约束装置，其特征在于：所述的转盘的外缘周向配有弹性环形外套。

8.如权利要求7所述的用于颗粒力链观测的磨粒约束装置，其特征在于：所述的环形外套的弹性与气压砂轮内层弹性橡胶层一致。