1.一种采用巯基化和过氧化聚间苯二胺修饰铋膜电极同时检测镉、铅离子的方法，其特征是：包括以下步骤：a、一步法制备巯基化聚间苯二胺修饰电极：配制含有H2SO4、间苯二胺和巯基丁二酸的电解质溶液，采用循环伏安法修饰玻碳电极表面，得到巯基化聚间苯二胺修饰电极；

b、制备过氧化巯基化聚间苯二胺修饰电极：将步骤a制备得到的巯基化聚间苯二胺修饰电极，在氢氧化钠溶液中，采用恒电位法过氧化5～10min，得到过氧化巯基化聚间苯二胺修饰电极；

c、同时检测镉、铅离子：配制含有硝酸铋、硝酸铅和硫酸镉的NaAc-HAc缓冲溶液，在通氧状态下，将步骤b制备得到的过氧化巯基化聚间苯二胺修饰电极置于NaAc-HAc缓冲溶液中，原位沉积铋膜，静置，采用方波溶出伏安法，进行镉、铅离子同时检测。

2.根据权利要求1所述的采用巯基化和过氧化聚间苯二胺修饰铋膜电极同时检测镉、铅离子的方法，其特征是：所述的步骤a中H2SO4溶液浓度为0.01～0.5M，间苯二胺溶液浓度为0.01～0.5M，巯基丁二酸溶液浓度为0.5～10mM。

3.根据权利要求2所述的采用巯基化和过氧化聚间苯二胺修饰铋膜电极同时检测镉、铅离子的方法，其特征是：所述的步骤a中H2SO4溶液浓度为0.1M，间苯二胺溶液浓度为

0.1M，巯基丁二酸溶液浓度为5mM。

4.根据权利要求1所述的采用巯基化和过氧化聚间苯二胺修饰铋膜电极同时检测镉、铅离子的方法，其特征是：所述的步骤a中循环伏安扫描电位范围为-0.2～1.2V，扫速为

50mV/s。

5.根据权利要求1所述的采用巯基化和过氧化聚间苯二胺修饰铋膜电极同时检测镉、铅离子的方法，其特征是：所述的步骤b中氢氧化钠浓度为0.01～1M，恒电位电压为0.9～

1.3V。

6.根据权利要求5所述的采用巯基化和过氧化聚间苯二胺修饰铋膜电极同时检测镉、铅离子的方法，其特征是：所述的步骤b中氢氧化钠浓度为0.2M，恒电位电压为1.0V。

7.根据权利要求1所述的采用巯基化和过氧化聚间苯二胺修饰铋膜电极同时检测镉、铅离子的方法，其特征是：所述的步骤c中硝酸铋溶液浓度为100～5000μg/L，NaAc-HAc缓冲溶液的pH值为2～8，原位沉积时间为15～180s，原位沉积电位范围为-1.3～-0.9V，静置5～25s。

8.根据权利要求7所述的采用巯基化和过氧化聚间苯二胺修饰铋膜电极同时检测镉、铅离子的方法，其特征是：所述的步骤c中硝酸铋溶液浓度为1000μg/L，NaAc-HAc缓冲溶液的pH值为6，原位沉积时间为150s，原位沉积电位为-1.0V，静置15s。

9.根据权利要求1所述的采用巯基化和过氧化聚间苯二胺修饰铋膜电极同时检测镉、铅离子的方法，其特征是：所述的步骤c中镉、铅离子的检测电位范围为-1.2～-0.2V，镉、铅离子的检测浓度均为6～360μg/L。