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专利号: 201510079096X
申请人: 浙江工业大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 核物理;核工程
更新日期:2023-12-11
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种焦斑可调的二维X射线平面组合折射透镜,其特征在于:包括二维透镜装配架,一维水平聚焦X射线平面组合折射透镜和一维垂直聚焦X射线平面组合折射透镜,所述二维透镜装配架包括抛物面型前端、抛物面型后端、顶部正方形装配孔和侧面正方形装配孔,所述顶部正方形装配孔和侧面正方形装配孔等间隔交替排列的,所述抛物面型前端和抛物面型后端具有相同的抛物面面型结构参数,所述顶部正方形装配孔和侧面正方形装配孔具有相同的边长,且相互之间装配孔光轴正交;

所述一维水平聚焦X射线平面组合折射透镜由基底和等间隔排列的抛物面型双凹折射单元组成,通过顶部正方形装配孔装配于二维透镜装配架;所述一维垂直聚焦X射线平面组合折射透镜由基底和等间隔排列的抛物面型双凹折射单元组成,通过侧面正方形装配孔装配于二维透镜装配架;所述顶部正方形装配孔数量大于或者等于一维水平聚焦X射线平面组合折射透镜的抛物面型双凹折射单元数量,所述侧面正方形装配孔数量大于或者等于一维垂直聚焦X射线平面组合折射透镜的抛物面型双凹折射单元数量。

2.如权利要求1所述的焦斑可调的二维X射线平面组合折射透镜,其特征在于:所述一维水平聚焦X射线平面组合折射透镜的抛物面型双凹折射单元的抛物面顶点曲率半径Rh和抛物面型双凹折射单元数量Nh需满足公式(1),公式(1)中,Bh表示焦斑的水平尺寸,L1表示同步辐射光源到二维X射线平面组合折射透镜的距离,L2表示二维X射线平面组合折射透镜到焦斑的距离,dh表示同步辐射光源出射X射线光束的水平尺寸,λ表示同步辐射光源出射X射线波长,μ表示透镜材料对当前波长为λ的X射线的吸收系数。

3.如权利要求1或2所述的焦斑可调的二维X射线平面组合折射透镜,其特征在于:

所述一维垂直聚焦X射线平面组合折射透镜的抛物面型双凹折射单元的抛物面顶点曲率半径Rv和抛物面型双凹折射单元数量Nv需满足公式(2):公式(2)中,Bv表示焦斑的垂直尺寸,L1表示同步辐射光源到二维X射线平面组合折射透镜的距离,L2表示二维X射线平面组合折射透镜到焦斑的距离,dv表示同步辐射光源出射X射线光束的垂直尺寸,λ表示同步辐射光源出射X射线波长,μ表示透镜材料对当前波长为λ的X射线的吸收系数。

4.如权利要求1或2所述的焦斑可调的二维X射线平面组合折射透镜,其特征在于:

所述二维透镜装配架的抛物面型前端和抛物面型后端的抛物面面型结构参数与一维水平聚焦X射线平面组合折射透镜的抛物面型双凹折射单元的抛物面面型结构参数,以及一维垂直聚焦X射线平面组合折射透镜的抛物面型双凹折射单元的抛物面面型结构参数相同。

5.如权利要求1或2所述的焦斑可调的二维X射线平面组合折射透镜,其特征在于:

所述二维透镜装配架的顶部正方形装配孔数量和侧面正方形装配孔数量相同。