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专利号: 2015101225793
申请人: 浙江工业大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物
更新日期:2023-08-24
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种咔唑-噻吩类共聚物,所述的共聚物是由摩尔比为1:1~1:10的活性单体A和活性单体B通过电化学氧化方法聚合得到,所述活性单体A为二茂铁基团修饰的3,6-二噻吩咔唑分子,其结构式如式(I)所示;所述活性单体B为3,4-乙烯二氧噻吩,其结构式如(II);

2.如权利要求1所述的咔唑-噻吩类共聚物,其特征在于所述的电化学氧化方法包括如下步骤:

(1)将摩尔比为1:1~1:10的活性单体A和活性单体B以及支持电解质、电解溶剂加入三电极电解池中配制成电解液,所述电解液中两种活性单体的初始浓度范围均在0.001~

0.01mol/L,支持电解质的浓度为0.001~0.1mol/L,然后在三电极电解池中在采用恒电位法进行聚合,在工作电极上电沉积得到共聚物膜;

(2)对所制得的共聚物膜进行脱掺杂处理,得到沉积在工作电极上的咔唑-噻吩类共聚物膜。

3.如权利要求2所述的咔唑-噻吩类共聚物,其特征在于:所述步骤(1)中,所述支持电解质由阴离子和阳离子按总摩尔比1︰1比例组成,所述阴离子为下列一种或两种以上任意混合:高氯酸根离子、四氟硼酸根离子或六氟磷酸根离子,所述阳离子为下列一种或两种以上任意混合:锂离子、四甲基铵离子、四乙基铵离子或四丁基铵离子。

4.如权利要求3所述的咔唑-噻吩类共聚物,其特征在于:所述支持电解质为四丁基高氯酸铵、高氯酸锂或四丁基四氟硼酸铵。

5.如权利要求2所述的咔唑-噻吩类共聚物,其特征在于:所述步骤(1)中,所述电解溶剂选自下列之一:乙腈、三氯甲烷或二氯甲烷。

6.如权利要求2所述的咔唑-噻吩类共聚物,其特征在于:所述步骤(1)中,所述的三电极电解池以金、铂或氧化铟锡导电玻璃电极为工作电极,以金或铂电极为辅助电极,以银-氯化银电极为参比电极,在恒电位1.0~2.0V条件下,采用恒电位法进行聚合反应,聚合反应终点根据消耗电量0.04~0.08C进行判断。

7.如权利要求2所述的咔唑-噻吩类共聚物,其特征在于:所述步骤(2)中,所述的脱掺杂处理具体为:将步骤(1)制得的共聚物膜置于同一电解液中,控制电位在-0.4V到-0.6V之间,对沉积有共聚物膜工作电极进行第一次脱掺杂处理100-200s,然后再将第一次脱掺杂处理后的工作电极用溶剂淋洗后再置于空白溶液中,所述的空白溶液与第一次脱掺杂使用的电解液的组成区别仅在于前者不含活性单体A和活性单体B,控制脱掺杂电位在-0.4V到-

0.6V之间处理100s-200s,进行二次脱掺杂处理,获得经过脱掺杂处理的共聚物膜。

8.如权利要求2所述的咔唑-噻吩类共聚物,其特征在于:所述的电化学氧化方法还包括步骤(3):将经过脱掺杂处理的共聚物膜进行清洗、干燥;清洗溶剂为乙腈、三氯甲烷或二氯甲烷。

9.如权利要求8所述的咔唑-噻吩类共聚物,其特征在于:所述步骤(3)中,经过脱掺杂处理的共聚物膜清洗后于60~90℃中干燥12~24小时。

10.如权利要求1所述的咔唑-噻吩类共聚物作为电致变色材料的应用。