1.用于光致细胞脱附的TiO 2/SiO2复合薄膜的制备方法，其特征在于包括如下步骤：1）将TEOS、THF 按体积比1:5~1:10 混合并搅拌均匀，配成A 溶液；将A 溶液与HNO3按体积比6:0.1~6:0.3 混合并搅拌均匀，配成B 溶液；将C2H5OH 和H2O 按体积比1:5 充分混合，配成C 溶液；搅拌条件下，将C 溶液以1~2s/ 滴的速度滴加到B 溶液中，之后搅拌1~2h，避光密封陈化2~3 天，得到SiO2溶胶；2）将TiO2水溶胶与THF 按体积比1:3~1:8 混合并搅拌均匀，超声0.5~1h，得到TiO 2溶胶；3）将步骤1）的SiO2溶胶滴加至洁净的基板上，以6000-8000r/min 的转速旋涂，获得SiO2膜，成膜后2s 内再在SiO 2膜上滴加TiO 2溶胶，再以6000-8000r/min 的转速旋涂，两次旋涂总时间为30~40s，将样品在55℃~70℃保温8~16h，获得用于光致细胞脱附的TiO2/SiO2复合薄膜；或者将步骤1）的SiO 2溶胶与步骤2）的TiO 2溶胶按摩尔比1:5~8:5 混合，搅拌均匀，超声0.5~1h，获得混合溶胶，将混合溶胶滴加至洁净的基板上，以4000-6000r/min的转速旋涂30~40s，然后将样品在55℃~70℃保温8~16h，获得用于光致细胞脱附的TiO2/SiO2复合薄膜。2. 根据权利要求1 所述的用于光致细胞脱附的TiO2/SiO2复合薄膜的制备方法，其特征在于所述的基板为PS、PP、PET、PE 或者PMMA。