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专利号: 2015102917664
申请人: 常州英中纳米科技有限公司
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
更新日期:2023-12-11
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种单分散有序疏水二氧化硅的制备方法,其特征在于,按照下述步骤进行:a)首先前驱体、表面活性剂、水、乙醇配制成混合溶液;所述的前驱体为甲基三乙氧基硅烷或者甲基三甲氧基硅烷;

b)混合溶液放置在烧杯中,30℃下面搅拌6h,此时溶液澄清透明,为均相溶液;

c)把混合溶液倒入烧瓶中,加入一定量的有机溶剂形成溶液,在69℃下面搅拌1h后调节温度至105℃,直至水和乙醇完全共沸精馏出来;

d)把剩余溶液烘干得到粉末样品,后加入混合洗涤液,进行高速离心,取离心管下面沉淀物在60℃下烘干;

e)收集烘干的产品,得到表面疏水、内部纳米孔道高度有序的二氧化硅。

2.根据权利要求1所述的一种单分散有序疏水二氧化硅的制备方法,其特征在于,制备的纳米颗粒尺寸为20-200nm。

3.根据权利要求2所述的一种单分散有序疏水二氧化硅的制备方法,其特征在于,当用于包裹及传递抗药药物时,所述纳米颗粒尺寸为30-50nm。