1.一种用于高速低功耗相变存储器的Ga40Sb60/Sb类超晶格相变薄膜材料，其特征在于：Ga40Sb60/Sb类超晶格相变薄膜材料为多层复合膜结构，由Ga40Sb60层和Sb层交替沉积复合而成，将Ga40Sb60层和一层Sb层作为一个交替周期，后一个交替周期的Ga40Sb60层沉积在前一个交替周期的Sb层上方；

所述Ga40Sb60/Sb类超晶格相变薄膜材料的膜结构用通式[Ga40Sb60 (a)/Sb(b)]x表示，其中a为单层Ga40Sb60层的厚度，1nm≤a≤50nm；b为单层Sb层的厚度，1nm≤b≤50nm；

x为Ga40Sb60层和Sb层的交替周期数，x为正整数。

2.根据权利要求1所述的用于高速低功耗相变存储器的Ga40Sb60/Sb类超晶格相变薄膜材料，其特征在于：Ga40Sb60层中含有Ga和Sb两种元素，Ga和Sb的原子比为4∶6。

3.根据权利要求2所述的用于高速低功耗相变存储器的Ga40Sb60/Sb类超晶格相变薄膜材料，其特征在于：6nm≤（a+b）*x≤80nm。

4.根据权利要求3所述的用于高速低功耗相变存储器的Ga40Sb60/Sb类超晶格相变薄膜材料，其特征在于：40nm≤（a+b）*x≤80nm。

5.一种如权利要求1所述的用于高速低功耗相变存储器的Ga40Sb60/Sb类超晶格相变薄膜材料的制备方法，其特征在于包括以下步骤：①基片的准备，将基片洗净烘干待用；

②磁控溅射的准备，将步骤①洗净的待溅射的基片放置在基托上，将Ga40Sb60合金和Sb作为溅射靶材分别安装在磁控射频溅射靶中，并将磁控溅射镀膜系统的溅射腔室进行抽真空，使用高纯氩气作为溅射气体；

③磁控溅射制备[Ga40Sb60 (a)/Sb(b)]x多层复合薄膜：

a、首先清洁Ga40Sb60合金靶材和Sb靶材表面；

b、靶材表面清洁完毕后，将待溅射的SiO2/Si（100）基片旋转到Ga40Sb60合金靶位，打开Ga40Sb60合金靶位上的射频电源，开始溅射Ga40Sb60层，Ga40Sb60层溅射完成后，关闭Ga40Sb60合金靶位上施加的射频电源；

c、将已经溅射了Ga40Sb60层的基片旋转到Sb靶位，开启Sb靶位上的射频电源，溅射结束后得到Sb层；

d、重复上述步骤b和c，重复次数为x-1次，溅射结束得到用于高速低功耗相变存储器的Ga40Sb60/Sb类超晶格相变薄膜材料。

6.根据权利要求5所述的用于高速低功耗相变存储器的Ga40Sb60/Sb类超晶格相变薄膜材料的制备方法，其特征在于：步骤②中高纯氩气的体积百分比≥99.999%，Ar气流量为

25～35SCCM，氩气溅射气压为0.15Pa～0.35Pa。

7.根据权利要求5所述的用于高速低功耗相变存储器的Ga40Sb60/Sb类超晶格相变薄膜材料的制备方法，其特征在于：步骤③b中Ga40Sb60层的溅射速率为3～5s/nm；步骤③c中Sb层溅射速率为2～4s/nm。