1.一种双系统织造经向供纱装置，其特征在于：包括固定支架、定位纱架、供纱装置、导纱架及张力均衡器，所述固定支架为矩形结构，固定支架下表面设有若干个万向轮，固定支架上表面从前至后一次排列依次固定设置有定位纱架、供纱装置、导纱架及张力均衡器。

2.根据权利要求1所述的一种双系统织造经向供纱装置,其特征在于：所述定位纱架包括两根立柱和两根定位辊，所述立柱分别固定垂直设置在所述固定支架上表面一端两侧，两根立柱顶部间隙内以上下平行设置两根定位辊。

3.根据权利要求2所述的一种双系统织造经向供纱装置,其特征在于：所述定位纱架与供纱装置之间设有连接横梁，连接横梁位置位于定位辊正下方，连接横梁上固定设置有若干个红外光电传感器。

4.根据权利要求1所述的一种双系统织造经向供纱装置,其特征在于：所述供纱装置包括四根立柱A、两根立柱B、定位板A、定位板B、定位板C、气缸A、张力压辊A、两根导纱辊A、调速电机、气缸B、张力压辊B、拖纱轴、引纱辊及同步电机；

所述四根立柱A及两根立柱B垂直固定设置在所述固定支架上表面两侧，立柱A高度大于立柱B高度30~60cm，四根立柱A构成的框架结构顶部焊接连接有定位板A，定位板A的中心处设有气缸A，气缸A的驱动轴垂直向下并与张力压辊A连接，张力压辊A下方以张力压辊A中轴线对称分布导纱辊A，张力压辊A正下方设置调速电机，调速电机通过皮带A与张力压辊A配合连接，调速电机底部固定设置在定位板B上表面，定位板B四个顶角与立柱A焊接连接；

所述立柱B与相邻的两根立柱A构成立方体框架结构的顶部固定设置有定位板C，定位板C的中心位置配合设置气缸B，气缸B的驱动轴垂直向下并与张力压辊B连接，张力压辊B正下方活动设置拖纱轴，拖纱轴外侧活动设置引纱辊，所述拖纱轴一端通过皮带B与固定设置在固定支架上表面的同步电机的驱动轴连接。

5.根据权利要求1所述的一种双系统织造经向供纱装置,其特征在于：所述导纱架包括两根固定架和四个导纱辊B，所述固定架垂直固定设置在固定支架上表面两侧，固定架上活动设置导纱辊B，所述导纱辊B以两个为一组，两组导纱辊B以上下平行的方式活动设置在固定架上，每组导纱辊B上下平行分布，相邻导纱辊B之间距离为1~10mm。

6.根据权利要求1所述的一种双系统织造经向供纱装置,其特征在于：所述张力均衡器包括支架，支架固定设置在底座上，支架顶部固定设置有垂直于水平面的弧形导纱板，导纱板上设有导纱磁眼，导纱板四周边框为矩形，内部为向任意一侧凹陷的球面，球面弧度为

40°~90°，球面上均匀设置有若干个导纱磁眼。