1.一种激光脉冲溅射沉积制备Ni-Mn-Co-In磁性形状记忆合金薄膜的方法，其特征在于，所述Ni-Mn-Co-In合金薄膜的结构通式为Ni50Mn34In16-XCoX，通式中x＝0、2、4、6；

Ni-Mn-Co-In合金薄膜按如下方法制备：

按配比取纯度为99.99at.％Ni、99.95at.％Mn、99.95at.％Co、99.99at.％In金属单质作为靶材原料，将靶材原料放置于非自耗真空电弧炉熔内熔炼，电弧炉内抽真空至5×10-

3Pa后，充入氩气，得到圆形靶材；将预处理后的石英玻璃基板和靶材放入真空系统中，抽真空至1.0×10-4Pa，基板温度为500～700℃，基板与靶材间距离为3～5cm；再用激光器发射激光，控制频率为3～4Hz，溅射1～3小时，制得要求厚度的薄膜；最后将薄膜在800～900℃下退火0.5～3h，制备出Ni50Mn34In16-XCoX合金薄膜。

2.根据权利要求1所述的一种激光脉冲溅射沉积制备Ni-Mn-Co-In磁性形状记忆合金薄膜的方法，其特征在于，熔炼过程中为保证合金化学成分的均匀性，每次熔炼前将试样翻转至少四次并加以磁搅拌。

3.根据权利要求1所述的一种激光脉冲溅射沉积制备Ni-Mn-Co-In磁性形状记忆合金薄膜的方法，其特征在于，所述的基板的处理方法为：石英玻璃基板先经过去离子水洗，然后在丙酮中超声10～15分钟，再用无水乙醇清洗，烘干。