1.一种激光脉冲溅射沉积制备Ni-Mn-Co-In合金薄膜,其特征在于,所述Ni-Mn-Co-In合金薄膜的结构通式为Ni50Mn34In16-XCoX,通式中x=0、2、4、6。
2.如权利要求1所述的一种激光脉冲溅射沉积制备Ni-Mn-Co-In合金薄膜的方法,其特征在于,按如下方法制备:按配比取Ni、Mn、Co、In金属单质作为靶材原料,将靶材原-3料放置于非自耗真空电弧炉熔内熔炼,电弧炉内抽真空至5×10 Pa后,充入保护气,得到-4圆形靶材;将预处理后的基板和靶材放入真空系统中,抽真空至1.0×10 Pa,基板温度为
500~700℃,基板与靶材间距离为3~5cm;再用激光器发射激光,控制频率为3~4Hz,溅射1~3小时,制得要求厚度的薄膜;最后将薄膜在800~900℃下退火0.5~3h,制备出Ni50Mn34In16-XCoX合金薄膜。
3.根据权利要求2所述的一种激光脉冲溅射沉积制备Ni-Mn-Co-In合金薄膜的方法,其特征在于,所述的所述的Ni金属单质的纯度为99.99at.%。
4.根据权利要求2所述的一种激光脉冲溅射沉积制备Ni-Mn-Co-In合金薄膜的方法,其特征在于,所述的Mn金属单质的纯度为99.95at.%。
5.根据权利要求2所述的一种激光脉冲溅射沉积制备Ni-Mn-Co-In合金薄膜的方法,其特征在于,所述的In金属单质的纯度为99.99at.%。
6.根据权利要求2所述的一种激光脉冲溅射沉积制备Ni-Mn-Co-In合金薄膜的方法,其特征在于,所述的Co金属单质的纯度为99.95at.%。
7.根据权利要求2所述的一种激光脉冲溅射沉积制备Ni-Mn-Co-In合金薄膜的方法,其特征在于,所述的保护气为氩气。
8.根据权利要求2所述的一种激光脉冲溅射沉积制备Ni-Mn-Co-In合金薄膜的方法,其特征在于,熔炼过程中为保证合金化学成分的均匀性,每次熔炼前将试样翻转至少四次并加以磁搅拌。
9.根据权利要求2所述的一种激光脉冲溅射沉积制备Ni-Mn-Co-In合金薄膜的方法,其特征在于,所述的基板为石英玻璃基板。
10.根据权利要求2所述的一种激光脉冲溅射沉积制备Ni-Mn-Co-In合金薄膜的方法,其特征在于,所述的基板的处理方法为:石英玻璃基板先经过去离子水洗,然后在丙酮中超声10~15分钟,再用无水乙醇清洗,烘干。