1.一种光敏电阻，包括陶瓷基体、光敏层和两个电极，所述的光敏层包覆在所述的陶瓷基体表面，所述的光敏层和所述的陶瓷基体形成光敏电阻主体，两个电极分别安装在所述的光敏电阻主体的两端，其特征在于所述的光敏层由以下组分组成：

所述的稀土氯化物为氯化钬、氯化钕、氯化钆、氯化镝和氯化钐中的一种或者为两种以上的混合物。

2.根据权利要求1所述的一种光敏电阻，其特征在于稀土氯化物为氯化钬、氯化钕、氯化钆、氯化镝和氯化钐的混合物，所述的稀土氯化物由以下组分组成：

3.根据权利要求1所述的一种光敏电阻，其特征在于所述的光敏层的厚度为2-5微米。

4.根据权利要求1所述的一种光敏电阻，其特征在于所述的陶瓷基体由纯度为93％以上的三氧化二铝制备而成。

5.一种光敏电阻的制作方法，其特征在于包括以下步骤：①制备陶瓷基体；

②制备光敏溶液：

按照以下配比配置光敏层原料并将各原料混合均匀后得到光敏层混合物：

所述的稀土氯化物为氯化钬、氯化钕、氯化钆、氯化镝和氯化钐中的一种或者为两种以上的混合物；

将光敏层混合物溶解在离子水中得到光敏溶液，其中光敏溶液中，光敏层混合物的重量百分比为30％，离子水的重量百分比为70％；

③将光敏溶液喷涂在陶瓷基体的表面，形成光敏层；

④将喷涂后的陶瓷基体在常温常压下静置10-15分钟后，再在380-1300℃高温下烧结

15分钟，得到光敏电阻主体；

⑤将两个电极安装在光敏电阻主体两端，得到光敏电阻。

6.根据权利要求5所述的一种光敏电阻的制作方法，其特征在于稀土氯化物为氯化钬、氯化钕、氯化钆、氯化镝和氯化钐的混合物，所述的稀土氯化物由以下组分组成：

7.根据权利要求5所述的一种光敏电阻的制作方法，其特征在于所述的步骤④之后，所述的步骤⑤之前还包括涂隔离层的步骤，所述的涂隔离层的步骤为：在光敏层的表面喷涂隔离层，隔离层的材料为环氧树脂。

8.根据权利要求5所述的一种光敏电阻的制作方法，其特征在于所述的步骤③中将光敏溶液多次喷涂在陶瓷基体的表面，喷涂次数为3-4次，所述的光敏层的厚度为2-5微米。

9.根据权利要求5所述的一种光敏电阻的制作方法，其特征在于所述的陶瓷基体由纯度为93％以上的三氧化二铝制备而成。