1.一种氧化镓晶片抗解理悬浮研磨液，其特征在于：它由下列重量百分比的原料制成：氧化铝微粉1～10%，分散触变剂1～5%，表面活性剂1～10%，煤油40～50%，烷烃20～30%，pH值调节剂1～3%，消沫剂0.01～0.03%，杀菌剂0.01～0.02%，助清洗剂

0.01～0.1%。

2.根据权利要求1所述的氧化镓晶片抗解理悬浮研磨液，其特征在于：它由下列重量百分比的原料制成：氧化铝微粉5～10%，分散触变剂3～5%，表面活性剂5～10%，煤油45～50%，烷烃

25～30%，pH值调节剂1～3%，消沫剂0.02%，杀菌剂0.02%，助清洗剂0.05%。

3.根据权利要求1或2所述的氧化镓晶片抗解理悬浮研磨液，其特征在于：所述的氧化铝微粉为α-Al2O3，微粉粒径为0.5～15μm。

4.根据权利要求3所述的氧化镓晶片抗解理悬浮研磨液，其特征在于：所述的分散触变剂为聚乙烯醇和纤维素衍生物中的一种或几种混合物，其中纤维素衍生物主要为羟乙基纤维素、氰乙基纤维素和乙基纤维素。

5.根据权利要求4所述的氧化镓晶片抗解理悬浮研磨液，其特征在于：所述的表面活性剂为辛基酚聚氧乙烯醚、壬基酚聚氧乙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚、脂肪酸聚氧乙烯醚、聚氧乙烯脱水山梨醇单油酸酯和硬脂酸甲酯聚氧乙烯醚中的一种或几种混合物。

6.根据权利要求5所述的氧化镓晶片抗解理悬浮研磨液，其特征在于：所述的煤油由烷烃、芳烃、环烃及不饱和烃组成的混合物，所述烷烃为含有11～13个碳原子的直链液态烷烃。

7.根据权利要求6所述的氧化镓晶片抗解理悬浮研磨液，其特征在于：所述的pH值调节剂分为碱性和酸性两种，其中碱性调节剂为有机碱pH值调节剂；其中酸性调节剂为盐酸或磷酸中的一种或两种混合物。

8.根据权利要求7所述的氧化镓晶片抗解理悬浮研磨液，其特征在于：所述的消沫剂为聚二甲基硅氧烷、聚氧乙烯聚氧丙烯季戊四醇醚和聚氧乙烯聚氧丙醇胺醚中的任意一种；所述的杀菌剂为异噻䂳啉酮和苯并异噻唑啉酮中的任意一种；所述的助清洗剂为异丙酮。

9.权利要求1所述的氧化镓晶片抗解理悬浮研磨液的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：（1）按权利要求1所述的重量百分比将煤油和烷烃混合，充分搅拌溶合，得到研磨液基液，静置、冷却至室温，备用；

（2）在搅拌的条件下，按权利要求1所述的重量百分比将氧化铝微粉、分散触变剂和表面活性剂加入到步骤（1）所得的基液中，充分搅拌均匀，再使用超声分散，得到研磨液中间液，静置、冷却至室温，备用；

（3）按权利要求1所述的重量百分比将消泡剂、杀菌剂河助清洗剂加入到步骤（2）所得的中间液中，充分搅拌，得到准研磨液，静置、冷却至室温，备用；

（4）测量步骤（3）中所得准研磨液的pH值，根据需要加入适量重量份额的酸性或碱性pH值调节剂，在搅拌的条件下缓慢滴加到准研磨液中，调节研磨液的pH值至8.0～9.0的范围内，充分搅拌混合均匀后，得到氧化镓晶片抗解理悬浮研磨液。

10.根据权利要求9所述的氧化镓晶片抗解理悬浮研磨液的制备方法，所述的氧化铝微粉为α-Al2O3，微粉粒径为0.5～15μm；

分散触变剂为聚乙烯醇和纤维素衍生物中的一种或几种混合物，其中纤维素衍生物主要为羟乙基纤维素、氰乙基纤维素和乙基纤维素。