1.一种光纤纤芯与包层交界面的Bragg光栅生化传感器，包括光纤纤芯(3)和包裹光纤纤芯(3)的光纤包层(2)，其特征在于：所述光纤纤芯(3)的前段设置长周期光纤光栅(4)；在光纤的中段位于光纤纤芯(3)和光纤包层(2)的交界面设置光纤纤芯与包层交界面的Bragg光栅(5)；该光纤纤芯与包层交界面的Bragg光栅(5)由若干条线状沟槽构成或者由若干个点状凹槽构成；所述线状沟槽或点状凹槽沿光纤的轴向呈现周期性的分布；所述线状沟槽的槽道沿光纤纤芯圆周方向延伸，该光纤纤芯与包层交界面的Bragg光栅(5)对应的光纤包层的外表面吸附有硅烷层(6)，其余光纤包层的外表面涂覆有光纤保护涂覆层(1)；所述硅烷层(6)的表面固定有适体层(7)，该适体层(7)对目标生物分子或待测化学成分具有选择性吸收或敏感的特性。

2.根据权利要求1所述的光纤纤芯与包层交界面的Bragg光栅生化传感器，其特征在于：在适体层(7)外设置有保护套(8)，该保护套(8)上设置有分子孔筛。

3.根据权利要求1或2所述的光纤纤芯与包层交界面的Bragg光栅生化传感器，其特征在于：所述长周期光纤光栅(4)的长度为20mm～50mm；该长周期光纤光栅(4)在

1500nm～1600nm之间具有带宽大于10nm的谐振损耗峰，损耗峰的耦合强度大于10dB；光纤纤芯与包层交界面的Bragg光栅(5)的长度为10mm～20mm，点状凹槽或线状沟槽的槽深度小于0.5μm，槽宽度小于光纤纤芯与包层交界面的Bragg光栅(5)周期的一半；光纤纤芯与包层交界面的Bragg光栅(5)的某个低阶包层模的谐振波长处于长周期光纤光栅(4)在1500nm～1600nm之间的谐振带的中心位置附近；该光纤纤芯与包层交界面的Bragg光栅(5)的纤芯基模的谐振波长处于长周期光纤光栅(4)的谐振带内；所述长周期光纤光栅(4)的后端与光纤纤芯与包层交界面的Bragg光栅(5)的前端的距离为10mm～30mm。

4.光纤纤芯与包层交界面的Bragg光栅生化传感器制作方法，其特征在于：包括如下步骤：

第一步：取一根单模裸光纤，该单模裸光纤只具有光纤纤芯(3)以及包裹光纤纤芯(3)的光纤包层(2)；将该单模裸光纤进行载氢处理；

第二步：制作长周期光纤光栅(4)：采用紫外光通过振幅掩膜板曝光方法在光纤纤芯(3)的前段写入长周期光纤光栅(4)；

第三步：制作光纤纤芯与包层交界面的Bragg光栅(5)：用飞秒激光器(11)发射激光脉冲，电子开关(12)控制光路的通断，通过衰减可控的半波片(13)和格兰氏棱镜(14)形成线偏振光，再用光束分束片(15)对光束进行分束，最后通过倒置的显微物镜(16)将激光光束聚焦到光纤中段的光纤纤芯(3)与光纤包层(2)的交界面，逐点写入若干个点状凹槽或者逐线写入若干条线状沟槽；所述线状沟槽或点状凹槽沿光纤的轴向呈现周期性的分布；所述线状沟槽的槽道沿光纤纤芯圆周方向延伸；

第四步：使用光纤涂覆机，在光纤包层(2)的前段和后段表面上涂覆上一层多聚物光纤保护涂覆层(1)；

第五步：使用浓度为5％～8％的硝酸清洁光纤表面，利用硅烷偶联剂溶液对光纤纤芯与包层交界面的Bragg光栅(5)对应的光纤包层的外表面进行硅烷化处理，在其外表面形成硅烷层(6)。

第六步：在硅烷层(6)的表面固定适体层(7)，该适体层(7)对目标生物分子或待测化学成分具有选择性吸收或敏感的特性。

5.根据权利要求4所述的光纤纤芯与包层交界面的Bragg光栅生化传感器制作方法，其特征在于：该方法还包括第七步：在适体层(7)外设置保护套(8)；该保护套(8)上设置有分子孔筛，以使目标生物分子或待测化学分子能够渗透分子孔筛。

6.根据权利要求4或5所述的光纤纤芯与包层交界面的Bragg光栅生化传感器制作方法，其特征在于：所述长周期光纤光栅(4)的长度为20mm～50mm；该长周期光纤光栅(4)在

1500nm～1600nm之间具有带宽大于10nm的谐振损耗峰，损耗峰的耦合强度大于10dB；光纤纤芯与包层交界面的Bragg光栅(5)的长度为10mm～20mm，点状凹槽或线状沟槽的槽深度小于0.5μm，槽宽度小于光纤纤芯与包层交界面的Bragg光栅(5)周期的一半；光纤纤芯与包层交界面的Bragg光栅(5)的某个低阶包层模的谐振波长处于长周期光纤光栅(4)在1500nm～1600nm之间的谐振带的中心位置附近；该光纤纤芯与包层交界面的Bragg光栅(5)的纤芯基模的谐振波长处于长周期光纤光栅(4)的谐振带内；所述长周期光纤光栅(4)的后端与光纤纤芯与包层交界面的Bragg光栅(5)的前端的距离为10mm～30mm。