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专利号: 2016100309141
申请人: 浙江工业大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 核物理;核工程
更新日期:2023-12-11
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种X射线组合折射透镜聚焦光学系统优化方法,其特征在于:该优化方法以具有不同单元数量和面型结构的X射线组合折射透镜系列、入射X射线光子波长和期望焦距为输入设计参量,以X射线组合折射透镜的选择和排列结果为输出设计参量,以聚焦光学系统焦距作为第一优化条件,根据聚焦光学系统容差得到初步优化方案;所述X射线组合折射透镜系列由[XCRL1,XCRL2,……,XCRLM]表示,M表示X射线组合折射透镜系列中的X射线组合折射透镜数量,所述X射线组合折射透镜XCRLi由[Ni,Ri,R0i,di]表示,1≤i≤M,Ni是所述XCRLi的单元数量,Ri是所述XCRLi的面型结构中的抛物面顶点曲率半径,R0i是所述XCRLi的面型结构中的抛物面最大开口距离的一半,di是所述XCRLi的面型结构中的相邻抛物面顶点距离,所述入射X射线光子波长由λ表示,所述期望焦距由f表示,所述X射线组合折射透镜的选择和排列结果是[XCRL1,XCRL2,……,XCRLM]的子集[XCRLi,XCRLj,……,XCRLk],并且子集中元素按照XCRLi使用的先后次序排列,所述聚焦光学系统焦距由fi'表示,所述聚焦光学系统透过率由 表示;所述第一优化条件的处理过程如下:

1.1根据所述λ计算所述XCRLi材料对X射线的折射系数δi

1.2根据公式(1)计算XCRLi的焦距fi

1.3如果fi

1.4对步骤1.3生成子集中的X射线组合折射透镜进行排列组合,得到2个聚焦光学系统{[XCRL1,XCRL2],[XCRL1,XCRL2,XCRL3]……,[XCRLi,……,XCRLM]}

1.5根据公式(2)计算由两个X射线组合折射透镜XCRLi和XCRLj组成的聚焦光学系统焦距f’

1.6根据步骤1.5,迭代计算步骤4得到的2K个聚焦光学系统焦距fi'

1.7根据聚焦光学系统容差△,选择满足公式(3)的2L个聚焦光学系统组合{[XCRL1,XCRL2],[XCRL2,XCRL3]……,[XCRLi,……,XCRLL]}|fi'-f|≤Δ (3)

1.8输出初步优化方案。

2.如权利要求1所述的X射线组合折射透镜聚焦光学系统优化方法,其特征在于:再以聚焦光学系统透过率作为第二优化条件,选择得到聚焦光学系统透过率最大的初步优化方案作为最终优化方案。

3.如权利要求2所述的X射线组合折射透镜聚焦光学系统优化方法,其特征在于:所述第二优化条件的处理过程如下:

2.1根据所述λ计算所述XCRLi材料对X射线的吸收系数μi

2.2根据公式(4)和(5)计算XCRLi的透过率Tpi

2.3根据公式(6)计算聚焦光学系统透过率

T′pi=Tpi·Tpj·····Tpk (6)

2.4根据2.3计算第一优化条件输出结果中所有聚焦光学系统透过率

2.5选择2.4中聚焦光学系统透过率 最大的组合作为最终优化方案。