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专利号: 2016101800658
申请人: 大连交通大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕
更新日期:2024-01-05
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种氮掺杂二氧化钛薄膜材料的制备方法,其特征在于:所述制备方法为利用氮离子束将氮元素掺杂注入二氧化钛薄膜表面,得到氮掺杂二氧化钛薄膜材料;

所述二氧化钛薄膜的晶体结构为非晶、多晶或非晶与多晶的混合。

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述掺杂注入的温度为室温。

3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述氮离子束与二氧化钛薄膜表面的距离为5-15cm。

4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述掺杂注入的时间为5-20min。

5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述产生氮离子束的离子源功率密度为0.5-4.0W/cm2。

6.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述产生氮离子束的离子源阳极电压为500-3500V。