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专利号: 2016102075783
申请人: 西南交通大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 微观结构技术〔7〕
更新日期:2024-01-05
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种平面度自补偿的大面积微加工用多针尖阵列制备方法,其具体作法是:

A、在载玻片(4)上镀一层蜡片薄膜(3),使用多探针加工设备在蜡片薄膜(3)上进行均匀打点并将蜡片薄膜(3)打穿,在蜡片薄膜(3)上形成均匀排列的圆形的凹槽(2);所述的蜡片薄膜(3)的厚度为10-20um;

B、将粒径相同的微球(6)逐个置于蜡片薄膜(3)上的各个凹槽(2)中,所述的微球(6)的直径为蜡片薄膜(3)厚度的5-10倍;所述的微球为不锈钢微球、金刚石微球;

C、用玻片(7)将微球(6)均匀地压入蜡片薄膜(3),使所有的微球(6)均接触到载玻片(4);

D、通过K-630特种快固胶(9)将弹性材料片(10)粘接在平整的针尖板(8)上,再在针尖板(8)的弹性材料片(10)表面涂一层紫外胶(11);所述的弹性材料片(10)的弹性模量为7-

15Mpa厚度为0.1-0.5mm;

E、将针尖板(8)的紫外胶(11)表面平压在蜡片薄膜(3)的微球(6)上,同时用紫外灯照射紫外胶(11),直至紫外胶(11)固化,微球(6)粘接在针尖板(8)的弹性材料片(10)上;

F、将针尖板(8)及微球(6)、载玻片(4)一起置于40-50℃的水蒸气中,待蜡片薄膜(3)融化,取走载玻片(4),清洗掉微球(6)表面残留的蜡,即在针尖板(8)上得到大面积微加工用多针尖阵列。