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专利号: 201610251342X
申请人: 浙江工业大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 电解或电泳工艺;其所用设备〔4〕
更新日期:2023-12-11
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种聚(3,4-乙撑二氧噻吩)纳米线薄膜,其特征在于,所述的聚(3,4-乙撑二氧噻吩)纳米线薄膜按如下合成方法制备得到:在三电极电解池中,以3,4-乙撑二氧噻吩单体、支持电解质、电解溶剂的混合溶液为电解液,以金电极、铂电极、氧化铟锡导电玻璃电极或氟掺杂氧化锡导电玻璃电极为工作电极,以金电极或铂电极为辅助电极,以银/氯化银电极为参比电极,于室温下采用循环伏安法或恒电位法进行聚合反应,得到沉积在工作电极上的聚(3,4-乙撑二氧噻吩)纳米线薄膜,经后处理淋洗、干燥即得成品;

所述的循环伏安法为:在-1.5~2.0V电压范围内以0.01~0.5v/s的速率反复扫描4~

10周,得到沉积在工作电极上的聚(3,4-乙撑二氧噻吩)纳米线薄膜;

所述的恒电位法为:在1.0~1.8V电压条件下聚合,当聚合电量达到0.01~0.1C时,聚合结束,然后在负电位-1~-0.2V下脱掺杂50~100s,得到沉积在工作电极上的聚(3,4-乙撑二氧噻吩)纳米线薄膜;

所述的电解液中3,4-乙撑二氧噻吩单体的初始浓度为0.001~0.1mol/L,支持电解质的初始浓度为0.001~0.1mol/L;

所述的支持电解质为1-丁基-3甲基咪唑双(三氟甲磺酰)亚胺盐;

所述的电解溶剂为二氯甲烷。

2.如权利要求1所述的聚(3,4-乙撑二氧噻吩)纳米线薄膜,其特征在于,所述的循环伏安法中,电压范围为-0.8~1.5V,扫描速率为0.1~0.3v/s。

3.如权利要求1所述的聚(3,4-乙撑二氧噻吩)纳米线薄膜,其特征在于,所述的恒电位法中,电压条件为1.4V,聚合电量为0.05C。

4.如权利要求1所述的聚(3,4-乙撑二氧噻吩)纳米线薄膜,其特征在于,所述的电解液中3,4-乙撑二氧噻吩单体的初始浓度为0.01~0.1mol/L,支持电解质的初始浓度为0.01~

0.lmol/L。

5.如权利要求1所述的聚(3,4-乙撑二氧噻吩)纳米线薄膜,其特征在于,所述的工作电极为氧化铟锡导电玻璃电极。

6.如权利要求1所述的聚(3,4-乙撑二氧噻吩)纳米线薄膜,其特征在于,所述的辅助电极为铂电极。

7.如权利要求1所述的聚(3,4-乙撑二氧噻吩)纳米线薄膜,其特征在于,所述的参比电极为双液接型银/氯化银电极,所述的双液接型银/氯化银电极以3mol/L的氯化钾水溶液为第一液接,以所述的电解液为第二液接。

8.如权利要求1所述的聚(3,4-乙撑二氧噻吩)纳米线薄膜,其特征在于,所述后处理淋洗、干燥的操作方法为:用二氯甲烷淋洗沉积在工作电极上的聚(3,4-乙撑二氧噻吩)纳米线薄膜,再置于60~90℃烘箱中干燥3~6h,即得成品。

9.如权利要求1~8任一项所述的聚(3,4-乙撑二氧噻吩)纳米线薄膜作为电致变色材料在电致变色器件中的应用。