1.一种消反射异质结复合涂层，其特征在于：消反射异质结复合涂层为层级有序结构，由下到上分别为刚性基底、锥形过渡金属氧化物、导电高分子纳米粒子，复合涂层整体为微纳多级结构；

所述锥形为四棱锥结构，锥的侧面与底面夹角为54°，锥的高度为1-10μm；

所述过渡金属氧化物为n型半导体，为二氧化钛；

所述刚性基底为硅片；

所述导电高分子纳米粒子为p型半导体，为聚苯胺，纳米粒子的粒径范围为5～100nm；

所述消反射异质结复合涂层的制备方法，包括以下步骤：

1)将单晶硅通过碱液刻蚀得到表面具有金字塔形貌的硅锥；

2)将聚二甲基硅氧烷(PDMS)的预聚物和固化剂浇铸在步骤1)的硅锥表面，加热固化后剥离PDMS模板；

4+

3)将Ti 盐进行水解，得到TiO2的溶胶；

4)将步骤2)的PDMS模板与表面附有TiO2溶胶的基底紧密接触，待溶剂挥发后，剥离PDMS模板，经过高温煅烧，得到与模板互补的锥形TiO2；

5)通过原位氧化法，在骤4)得到的锥形TiO2表面自组装聚苯胺纳米粒子，得到消反射异质结复合涂层。

2.根据权利要求1所述的一种消反射异质结复合涂层，其特征在于：所述步骤1)中，单晶硅的碱液刻蚀为在机械或磁力搅拌下30～100℃水浴锅加热不少于5min。

3.根据权利要求1所述的一种消反射异质结复合涂层，其特征在于：所述步骤2)中，预聚物和固化剂的质量比8:1～12:1，固化温度40～90℃，固化时间0.5～24h。