1.一种非对称传输结构，包括结构本体(1)，其特征在于：所述结构本体(1)包括多个传输单元(2)，所述多个传输单元(2)设有相交的第一缝隙(3)和第二缝隙(4)；

所述第二缝隙(4)与第一缝隙(3)之间有一锐角β，且β的数值范围为30°～60°。

2.根据权利要求1所述的一种非对称传输结构，其特征在于：所述传输单元(2)为长方体，所述长方体的长度a、宽度b的数值范围均为150nm～200nm，高度t的数值范围为20nm～

80nm。

3.根据权利要求2所述的一种非对称传输结构，其特征在于：所述第一缝隙(3)与所述长方体的宽度b方向相平行，且所述第一缝隙(3)的长度与所述长方体的宽度b相等，第一缝隙(3)宽度c的数值范围为20nm～50nm；所述第二缝隙(4)的长度e方向和宽度d方向之间的夹角α的数值范围为30°～90°，且第二缝隙(4)的长度e、宽度d的数值范围分别90nm～

150nm、30nm～70nm。

4.权利要求1-3任一项所述的一种非对称传输结构的制备方法，其特征在于：具体包括如下步骤：步骤一、清洗：选取ITO玻璃作为基底，并将其放入洗涤液中清洗，再依次用去离子水Ⅰ、丙酮、酒精、去离子水Ⅱ超声清洗，最后用氮气枪吹干放入氮气柜备用；

步骤二、涂光刻胶：用甩胶机在所述步骤一清洗后的基底上甩SU-8光刻胶；

步骤三、涂胶后烘：将所述步骤二甩胶后的基底放置在热板上烘烤；

步骤四、曝光：对所述步骤三烘烤后的基底，用图形发生器设计结构图形，并用电子束曝光图形，得到曝光后的基底；

步骤五、显影：室温条件下，将所述步骤四曝光后的基底放入显影液中浸泡显影；

步骤六、定影：将所述步骤五浸泡显影的基底放入定影液中浸泡，时间不少于60s；

步骤七、显影后烘：将所述步骤六定影浸泡的基底放置在热板上烘烤；

步骤八、真空镀金：将所述步骤七烘烤后的基底放入电子束真空蒸发镀膜机中，蒸镀钛后再蒸镀金，蒸镀完冷却10min～20min后再取出；

步骤九、光刻胶去除：采用lift-off工艺，用去胶液剥离所述步骤八真空镀金后的基底上的SU-8光刻胶，时间至少为30min；

步骤十、用氮气枪吹干所述步骤九处理后的基底，非对称传输结构制备完成。

5.根据权利要求4所述的一种非对称传输结构的制备方法，其特征在于：所述步骤一中ITO玻璃的尺寸为1～3英寸，洗涤液为洗洁精或者洗手液，去离子水Ⅰ、丙酮、酒精依次超声清洗的时间为15min，去离子水Ⅱ超声清洗的时间为5min。

6.根据权利要求4所述的一种非对称传输结构的制备方法，其特征在于：所述步骤二中SU-8光刻胶的厚度为200nm，所述甩胶机的转速为1000rpm，时间为60s。

7.根据权利要求4所述的一种非对称传输结构的制备方法，其特征在于：所述步骤三、步骤七中热板的温度均为150℃，且烘烤时间均为3min～15min；所述热板放置于超净室内的通风处，且热板的温度精度为±1℃。

8.根据权利要求4所述的一种非对称传输结构的制备方法，其特征在于：所述步骤五中的显影液由四甲基二戊酮与异丙醇以体积比为3:1配合制成，且显影时间为60s。

9.根据权利要求4所述的一种非对称传输结构的制备方法，其特征在于：所述步骤八中真空蒸发镀膜机的真空度不大于3×10-6torr，蒸镀钛、金的厚度分别为10nm、40nm。