1.一种碱性阴离子交换膜的制备方法，其特征在于，它包括以下步骤：（1）将聚合物单体、聚合型离子液体改性氧化石墨烯、交联剂、引发剂以重量比为60~

95：0.1~20：0.1~15：1~5混合，进行原位聚合得高分子膜；

（2）将所述高分子膜浸泡在碱液中进行阴离子交换即可。

2.根据权利要求1所述碱性阴离子交换膜的制备方法，其特征在于，所述聚合型离子液体改性氧化石墨烯的化学结构式为：

式中，R为-H、-CH3、-CH2CH3、-CH(CH3)2和-C6H5的一种，X为Cl或Br。

3.根据权利要求2所述碱性阴离子交换膜的制备方法，其特征在于，所述聚合型离子液体改性氧化石墨烯的制备方法为：（a）将含有乙烯基的咪唑类单体、硅烷偶联剂和阻聚剂加入到乙腈中，在50~80℃回流反应20~75小时，反应结束后用无水乙醇清洗多次，旋转蒸发后干燥，得到聚合型离子液体；

（b）将聚合型离子液体、氧化石墨烯添加到乙醇中，调节混合液pH=2~5，在室温下反应

24~130小时后过滤，用无水乙醇清洗多次，旋转蒸发后干燥，即得到聚合型离子液体改性氧化石墨烯。

4.根据权利要求3所述碱性阴离子交换膜的制备方法，其特征在于：所述含有乙烯基的咪唑类单体和硅烷偶联剂的摩尔比为1:0.8~1.5，所述阻聚剂的质量为所述含有乙烯基的咪唑类单体质量的0.5~2%，所述聚合型离子液体和氧化石墨烯的质量比为3~10：1。

5.根据权利要求3所述碱性阴离子交换膜的制备方法，其特征在于：所述含有乙烯基的咪唑类单体为 。

6.根据权利要求3所述碱性阴离子交换膜的制备方法，其特征在于：所述硅烷偶联剂为γ-氯丙基三甲氧基硅烷、γ-溴丙基三甲氧基硅烷、γ-溴丙基甲基二甲氧基硅烷和γ-氯丙基甲基二甲氧基硅烷的一种或多种组成的混合物。

7.根据权利要求1所述碱性阴离子交换膜的制备方法，其特征在于：所述聚合物单体选自丙烯腈、苯乙烯、α-甲基苯乙烯和α-甲基丙烯腈中的一种或多种组成的混合物。

8.根据权利要求1所述碱性阴离子交换膜的制备方法，其特征在于：所述交联剂为二乙烯基苯，所述引发剂为安息香乙醚、 或 。

9.根据权利要求1所述碱性阴离子交换膜的制备方法，其特征在于：步骤（b）中，所述碱液为氢氧化钾或氢氧化钠的水溶液，浸泡温度为50~80℃。