1.氧化还原石墨烯/TiO2：Nd复合物自清洁薄膜制备方法，其特征在于，包括如下步骤，步骤1，制备前驱体溶液：以无水乙醇和水为溶剂，在溶剂中加入乙二醇、丙二醇和丙三醇作为稳定剂和分散剂，将钛酸四丁酯、硝酸钕和GO水溶液加入溶剂中，经充分搅拌至均匀透明得到前驱体溶液；其中，前驱体溶液中Ti离子浓度为0.01-0.10mol/l；GO水溶液中的水计入前驱体溶液的总水配比中，每100ml前驱体溶液中加入1.0ml还原剂浓盐酸和5ml乙酰丙酮；

步骤2，涂膜：将前驱体溶液浸涂或旋涂在需要镀膜的基片上，每次涂覆后在150-200℃下干燥0.5h，根据要求反复涂覆5-25次；

步骤3，烧成：在400℃下烧制1.0h，在需要镀膜的基片上得到氧化还原石墨烯/TiO2：Nd复合物自清洁薄膜，其中，Nd离子的掺杂量为TiO2的0.5-1.5at.％，氧化还原石墨烯rGO与TiO2的质量比为0-0.050，氧化还原石墨烯rGO的含量不为0。

2.根据权利要求1所述的氧化还原石墨烯/TiO2：Nd复合物自清洁薄膜制备方法，其特征在于，步骤1中，其中，无水乙醇、水、乙二醇、丙二醇和丙三醇的体积比为3：1：2：2：2。

3.根据权利要求1所述的氧化还原石墨烯/TiO2：Nd复合物自清洁薄膜制备方法，其特征在于，所述的硝酸钕采用六水硝酸钕。

4.根据权利要求1所述的氧化还原石墨烯/TiO2：Nd复合物自清洁薄膜制备方法，其特征在于，搅拌时采用磁力或超声充分搅拌至均匀透明。

5.根据权利要求1所述的氧化还原石墨烯/TiO2：Nd复合物自清洁薄膜制备方法，其特征在于，GO水溶液的浓度为2mg/ml。

6.氧化还原石墨烯/TiO2：Nd复合物自清洁薄膜，其特征在于，由权利要求1-5中任意一项所述的制备方法制得。