1.一种大面积微纳结构电流体动力学打印的喷射高度误差补偿方法，其特征在于：其步骤如下：(一)确定基板约束点的数量；

(二)得到基板约束点的Z轴坐标值zi；

(三)构建XY平面四边形网格；

(四)确定XY平面四边形网格顶点的Z轴坐标值zj；

(五)构建基板打印面积的三维曲面；

(六)获得当前打印基板位置的Z轴坐标值zc；

(七)补偿电流体动力学打印的喷射高度。

2.根据权利要求1所述的大面积微纳结构电流体动力学打印的喷射高度误差补偿方法，其特征在于：(一)中根据电流体动力学打印面积，确定约束点的数量，在基板的XY平面内确定X轴和Y轴上的约束点数量分别为N和M，N≥3，M≥3，得到约束点的数量为N×M，根据电流体动力学装置的运动平台的移动距离分别得到各个约束点的X轴和Y轴的位置，其N×M个约束点在XY平面的坐标为(xi,yi)N×M，其中，1≤i≤N×M。

3.根据权利要求2所述的大面积微纳结构电流体动力学打印的喷射高度误差补偿方法，其特征在于：(二)中采用测量检测设备对基板的XY平面上的N×M个约束点进行原位检测Z轴位置，得到N×M个约束点的Z轴坐标值为zi，其中，1≤i≤N×M。

4.根据权利要求3所述的大面积微纳结构电流体动力学打印的喷射高度误差补偿方法，其特征在于：(三)中根据电流体动力学打印面积，构建XY平面的四边形网格，X轴和Y轴上的网格数量分别为S和T，从而得到XY平面上的平面四边形网格数为S×T，并得到各网格点的平面坐标为(xj,yj)S×T，其中1≤j≤S×T。

5.根据权利要求4所述的大面积微纳结构电流体动力学打印的喷射高度误差补偿方法，其特征在于：(四)中根据基板的N×M个约束点三维坐标值(xi,yi,zi)N×M，确定平面四边形网格顶点的Z轴坐标值zj，其具体过程如下：(1)根据基板的N×M个约束点的三维坐标值(xi,yi,zi)N×M，获得线性方程组：其中，Pi-Pj，i,j＝1,2,…,N×M，为XY平面上约束点之间的距离，且δ(Pi-Pj)＝|Pi-Pj|2[(ln|Pi-Pj|-1)]，ci为线性方程组的系数；

(2)从(1)中获得线性方程组的系数ci，i＝1,2,…,N×M；

(3)获得平面四边形网格顶点的Z轴坐标值zj：

zj＝c1δ(Pj-P1)+c2δ(Pj-P2)+…cN×Mδ(Pj-PN×M)，其中，j＝1,2,…,S×T。

6.根据权利要求5所述的大面积微纳结构电流体动力学打印的喷射高度误差补偿方法，其特征在于：(五)中根据平面四边形网格顶点的三维坐标值(xj，yj,zj)S×T，分别沿着X、Y方向依次连接，构成四角网格的基板喷印面积的三维曲面。

7.根据权利要求6所述的大面积微纳结构电流体动力学打印的喷射高度误差补偿方法，其特征在于：(六)中获得当前打印基板位置的Z轴坐标值zc，包括以下步骤：a、确定当前电流体动力学打印的基板在XY平面内的位置，在XY平面内判断当前打印位置所在的平面四边形网格，b、根据当前打印位置所在的平面四边形网格的四个顶点，获得当前打印基板位置的Z轴坐标值zc，利用当前电流体动力学打印的基板在XY平面内的位置与平面四边形网格顶点之间的距离作为权值，对平面四边形网格顶点的Z轴坐标值zj进行加权平均，得到当前打印基板位置的Z轴坐标值zc：其中zc为当前打印基板位置的Z轴坐标值，zf、zs、zt和zl分别为当前打印位置所在的平面四边形网格的四个顶点的Z轴坐标值，df、ds、dt和dl分别为当前打印基板位置与当前打印位置所在的平面四边形网格的四个顶点zf、zs、zt和zl之间的距离。

8.根据权利要求7所述的大面积微纳结构电流体动力学打印的喷射高度误差补偿方法，其特征在于：(七)中补偿电流体动力学打印的喷射高度，根据当前打印基板的Z轴坐标值zc，确定电流体动力学打印的补偿喷射高度：H2＝H1+zc，其中H2为当前打印基板位置的补偿喷射高度，H1为当前打印基板位置的原始喷射高度，zc为当前打印基板位置的Z轴坐标值。