1.一种钴铬烤瓷义齿的电泳沉积-激光熔覆复合加工方法，其特征在于：采用电泳在牙科钴铬合金基底材料表面沉积瓷层，再采用激光熔覆将瓷层熔覆，即制得钴铬烤瓷义齿；具体步骤如下：步骤1，将烤瓷粉加入有机溶剂和水混合的分散介质中，并添加三乙醇胺，经磁力搅拌、超声波振荡制备成悬浮液；步骤2，通过电泳反应在牙科钴铬合金基底材料上沉积瓷层，其中阳极为已经过喷砂预处理的牙科钴铬合金基底材料，阴极为铂片电极；步骤3，采用激光熔覆的方法，将瓷层熔覆到牙科钴铬合金上，即得钴铬烤瓷义齿；所述步骤2中所述的牙科钴铬合金基底材料为牙科钴铬合金、钴铬钼合金、钴铬钨合金或钴铬钼钨合金中任一种；步骤2中所述电泳沉积电压为5～100V；电泳沉积时间为10min、12min、15min或20min；

电极间距为1 ～ 5 cm。

2.根据权利要求1所述的钴铬烤瓷义齿的电泳沉积-激光熔覆复合加工方法，其特征在于，步骤1中所述烤瓷粉为维他瓷粉、则武瓷粉、松风、贺利式瓷粉、义获嘉瓷粉、登士柏瓷粉中任一种。

3.根据权利要求1所述的钴铬烤瓷义齿的电泳沉积-激光熔覆复合加工方法，其特征在于，步骤1中所述烤瓷粉在分散介质中的浓度为3～200g/L，有机溶剂和水的体积比为5:95 ～95:5，所述有机溶剂为乙醇、甲醇、丙酮、丙醇或异丙醇中任一种，所述三乙醇胺在分散介质中的浓度为1～20g/L。

4.根据权利要求1所述的钴铬烤瓷义齿的电泳沉积-激光熔覆复合加工方法，其特征在于，步骤3中所述的激光熔覆的具体工艺参数为：激光功率100-500 W，扫描速度5-100 mm/ min，离焦量0-15 mm，扫描间距0.1-0.5 mm。