1.一种席夫碱合钯阴离子插层水滑石，其特征在于，所述的席夫碱合钯阴离子插层水滑石按如下方法制备得到：(1)将水杨醛的水溶液滴加入对氨基苯甲酸的水溶液中，滴完后室温搅拌30～60min，再升温至回流温度65～85℃搅拌1～3h，之后反应液冷却至室温，过滤，滤饼经洗涤，干燥，得到对氨基苯甲酸水杨醛席夫碱；

步骤(1)中，所述水杨醛与对氨基苯甲酸的物质的量之比为1∶0.5～2；

(2)将步骤(1)所得对氨基苯甲酸水杨醛席夫碱加入乙醇中配制成席夫碱的乙醇溶液，在20～50℃下保持10～30min，然后滴加NaOH的乙醇溶液，滴完后升温至60～80℃并保持20～60min，接着滴加钯盐的乙醇溶液，滴完后升温至85～100℃回流6～18h，之后反应液冷却至室温，抽滤，滤饼经洗涤，干燥，得到席夫碱合钯配合物；

步骤(2)中，所述对氨基苯甲酸水杨醛席夫碱与NaOH、钯盐中所含钯的物质的量之比为

0.5～2∶0.5～2∶1；

所述的钯盐为NaPdCl4或PdCl2；

(3)将Mg(NO3)2·6H2O、Al(NO3)3·9H2O溶解于去CO2水中配制成混合盐溶液；将NaOH溶解于去CO2水中配制成碱液；将步骤(2)所得席夫碱合钯配合物溶解于去CO2水中配制成配合物溶液；在惰性气体保护下，将混合盐溶液、碱液滴加到配合物溶液中，控制pH在9～10之间，滴完后室温搅拌1～3h，之后升温至60～80℃恒温晶化12～24h，晶化后反应液冷却至室温，过滤，滤饼经洗涤，干燥，研磨，得到所述的席夫碱合钯阴离子插层水滑石；

步骤(3)中，所述的Al(NO3)3·9H2O与Mg(NO3)2·6H2O、NaOH、席夫碱合钯配合物的物质的量之比为1：2～3：8～16：0.15～0.75。

2.如权利要求1所述的席夫碱合钯阴离子插层水滑石，其特征在于，步骤(1)中，所述水杨醛的水溶液浓度为0.061～0.122g/mL；所述对氨基苯甲酸的水溶液浓度为0.034～

0.274g/mL。

3.如权利要求1所述的席夫碱合钯阴离子插层水滑石，其特征在于，步骤(2)中，在配制席夫碱的乙醇溶液时，所述对氨基苯甲酸水杨醛席夫碱与乙醇的料液质量比为1∶24～48；

所述NaOH的乙醇溶液浓度为0.0005～0.006g/mL；所述钯盐的乙醇溶液浓度为0.004～

0.022g/mL。

4.如权利要求1所述的席夫碱合钯阴离子插层水滑石，其特征在于，步骤(3)中，所配制的混合盐溶液中Mg(NO3)2·6H2O的浓度为0.055～0.273g/mL；所配制的碱液中NaOH的浓度为0.020～0.100g/mL；所配制的配合物溶液中席夫碱合钯配合物的浓度为0.039～0.197g/mL。

5.如权利要求1所述的席夫碱合钯阴离子插层水滑石在催化氧化Heck反应中的应用。

6.如权利要求5所述的应用，其特征在于，所述应用的方法为：

将所述的席夫碱合钯阴离子插层水滑石、吲哚(I)、丙烯酸酯类化合物(II)、醋酸铜、硅胶、不锈钢球加入不锈钢球磨罐中，密封后将球磨罐置于球磨机中，以10～30Hz的频率进行球磨30～60min，之后反应混合物经后处理，得到产物3-烯基吲哚类化合物(III)；

式(II)或(III)中，R1为甲氧羰基、乙氧羰基或叔丁氧羰基；

所述的吲哚(I)与丙烯酸酯类化合物(II)、醋酸铜、所述的席夫碱合钯阴离子插层水滑石以钯计的物质的量之比为1∶1～3∶1～4∶0.05～0.1。

7.如权利要求6所述的应用，其特征在于，所述硅胶的质量用量为吲哚(I)质量的3～5倍。

8.如权利要求6所述的应用，其特征在于，所述不锈钢球为2～4个，所述不锈钢球的总质量与所投物料的总质量之比为1∶0.1～0.2。

9.如权利要求6所述的应用，其特征在于，所述反应混合物的后处理方法为：反应结束后，反应混合物用二氯甲烷萃取，收集二氯甲烷萃取液，减压蒸除溶剂，即得产物；将剩余固体粉末用二氯甲烷、无水乙醇洗涤，真空干燥，即可回收席夫碱合钯阴离子插层水滑石。