1.一种氧化石墨烯/银纳米颗粒/金字塔形硅三维拉曼增强基底，所述增强基底从下到上依次包括金字塔形硅基底、银纳米颗粒层和氧化石墨烯层。

2.一种氧化石墨烯/银纳米颗粒/金字塔形硅三维拉曼增强基底的制备方法，其特征是，包括以下步骤：(1)将基底材料打磨预处理，制备金字塔形硅基底；(2)向金字塔形硅基底涂覆银纳米颗粒溶液；(3)继续涂覆氧化石墨烯溶液，烘烤，即得。

3.如权利要求2所述的一种氧化石墨烯/银纳米颗粒/金字塔形硅三维拉曼增强基底的制备方法，其特征是，所述的硅基底材料为单晶硅。

4.如权利要求2所述的一种氧化石墨烯/银纳米颗粒/金字塔形硅三维拉曼增强基底的制备方法，其特征是，所述步骤(1)制备金字塔形硅基底的方法为湿法腐蚀工艺。

5.如权利要求2所述的一种氧化石墨烯/银纳米颗粒/金字塔形硅三维拉曼增强基底的制备方法，其特征是，所述步骤(2)银纳米颗粒溶液为直径均一的银纳米颗粒的分散液。

6.如权利要求5所述的一种氧化石墨烯/银纳米颗粒/金字塔形硅三维拉曼增强基底的制备方法，其特征是，所述的银纳米颗粒的直径为5-50nm。

7.如权利要求2所述的一种氧化石墨烯/银纳米颗粒/金字塔形硅三维拉曼增强基底的制备方法，其特征是，所述步骤(3)中氧化石墨烯溶液涂覆的过程为立刻dip-coating方法。

8.权利要求1或2所述的氧化石墨烯/银纳米颗粒/金字塔形硅三维拉曼增强基底在获得分子拉曼增强光谱中的应用。