1.一种非对称式光学干涉测量方法，其特征在于，包括以下步骤：

入射光源经过分光镜分为两束光，分别投射到待测物体表面和参考镜表面，并分别通过待测物体侧的第一成像透镜、参考镜侧的第二成像透镜，经第三成像透镜在光电传感器上叠加形成至少一个干涉图像；所述第一成像透镜的放大倍率小于所述第二成像透镜的放大倍率；

将相应干涉图像输入计算机，获得相应的干涉图像信号；

对相应的干涉图像信号进行解析，获得待测物体表面的三维形貌；

其中：通过同时调整所述第二成像透镜与分光镜之间的距离、所述参考镜与分光镜之间的距离，并保持所述第二成像透镜与参考镜之间的距离不变，以改变所述参考镜侧的光路和所述待测物体侧的光路之间的光程差，在所述光电传感器上形成多个干涉图像；

在所述第二成像透镜和参考镜之间插入准直透镜、直角转向反射镜和180度回射反射镜，通过调整直角转向反射镜和180度回射反射镜之间的距离，补偿由于改变待测物体的成像位置所引起的所述参考镜侧的光路和所述待测物体侧的光路之间的光程差。

2.如权利要求1所述的非对称式光学干涉测量方法，其特征在于，所述光电传感器为面阵相机光电传感器。

3.如权利要求1所述的非对称式光学干涉测量方法，其特征在于，利用相移算法或白光干涉法对相应的干涉图像信号进行解析。

4.一种非对称式光学干涉测量装置，其特征在于，包括分光镜、待测物体、待测物体侧的第一成像透镜、参考镜、参考镜侧的第二成像透镜、第三成像透镜和光电传感器，所述第一成像透镜的放大倍率小于所述第二成像透镜的放大倍率；

入射光源经所述分光镜分为两束光，分别投射到待测物体表面和参考镜表面，并分别通过所述第一成像透镜和所述第二成像透镜，经所述第三成像透镜在所述光电传感器上叠加形成至少一个干涉图像；

其中：通过同时调整所述第二成像透镜与分光镜之间的距离、所述参考镜与分光镜之间的距离，并保持所述第二成像透镜与参考镜之间的距离不变，以改变所述参考镜侧的光路和所述待测物体侧的光路之间的光程差，在所述光电传感器上形成多个干涉图像；

在所述第二成像透镜和参考镜之间插入准直透镜、直角转向反射镜和180度回射反射镜，通过调整直角转向反射镜和180度回射反射镜之间的距离，补偿由于改变待测物体的成像位置所引起的所述参考镜侧的光路和所述待测物体侧的光路之间的光程差。

5.如权利要求4所述的非对称式光学干涉测量装置，其特征在于，所述参考镜位于所述第二成像透镜的后焦面。