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光沉积制备Bi/BiVO4复合光电阳极材料的方法
￥32200
专利号： 201610936131X
申请人： 西北师范大学
专利类型：发明专利
专利状态：已下证
专利领域： 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕
更新日期：2024-01-05
缴费截止日期： 暂无
摘要:
权利要求书:
1.光沉积制备Bi/BiVO4复合光电阳极的方法，是将BiVO4电极浸于Bi(NO3)3·5H2O的乙二醇/水混合溶液中，光照使得在BiVO4电极表面 均匀生长一层灰黑色膜；用乙醇洗涤，即得Bi/BiVO4复合光电阳极；所述光照以300 W 氙灯作为光源，光照时间为30 90min。
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2.如权利要求1所述光沉积制备Bi/BiVO4复合光电阳极的方法，其特征在于：所述Bi(NO3)3·5H2O的乙二醇/水混合溶液中，Bi(NO3)3·5H2O的浓度为0.01~0.05M。
3.如权利要求1所述光沉积制备Bi/BiVO4复合光电阳极的方法，其特征在于：所述乙二醇/水混合溶液中，乙二醇的体积百分数为1 50%。
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