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专利号: 2016109879297
申请人: 华侨大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕
更新日期:2024-01-05
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种矫顽力可调稀土-过渡合金薄膜的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:(1)将多片呈等腰三角形的纯度≥99.9%的稀土贴片均匀对称贴在纯度≥99.9%的的铁钴合金靶上,形成溅射用的复合镶嵌靶,所述稀土贴片为Tb贴片或者Dy贴片,所述稀土贴片的顶角为15~40°,所述稀土贴片的腰长为所述铁钴合金靶的半径长度的70~90%;

(2)将所述复合镶嵌靶作为磁控溅射的靶材,安装固定在磁控溅射室的溅射靶座上;

(3)将清洗烘干后的基片安置固定于磁控溅射室的基片台上,调整靶基距为4~8cm;

(4)将溅射真空室抽真空达到真空度1×10-5Pa以下,通入纯度≥99.99%的氩气作为工作气体,控制氩气的进气流量在25~100sccm范围内;

(5)在溅射工作气压0.2~1.0Pa的条件下,对所述复合镶嵌靶预溅射10~30min;

(6)调节基片台每分钟旋转5~15圈,打开基片台和溅射靶座之间的挡板,以1.5~5W/cm2的溅射功率密度溅射所述复合镶嵌靶,溅射时间为1~20min,得到20~400nm厚的稀土-过渡合金薄膜。

2.根据权利要求1所述的一种矫顽力可调稀土-过渡合金薄膜的制备方法,其特征在于:所述稀土贴片的数量为3~6片,各片所述稀土贴片以所述铁钴合金靶的圆心为中心点分布在所述铁钴合金靶上。