1.一种化学气相沉积用的反应装置，包括反应腔壳体和反应腔上盖（107），反应腔上盖（107）盖设在反应腔壳体上构成密封的反应腔，反应腔上盖（107）上设置有为反应腔供入反应气体的反应腔进气口（108），反应腔壳体上加工有反应腔出气口（106），其特征在于：所述的反应腔底部倒扣有隔离罩（102），通过隔离罩（102）将反应腔分成两个空间，隔离罩（102）内部空间中设置有电极柱（104），电极柱（104）上连接有电阻丝（103），隔离罩（102）内部空间中连接有惰性气体进气口（105），隔离罩（102）侧壁上开设有惰性气体排气口（109），通过惰性气体进气口（105）和惰性气体排气口（109）配合为隔离罩（102）内部空间中通入动态流动的惰性气体，以便于通过动态流动的惰性气体填充隔离罩内部空间，并通过动态流动的惰性气体阻止反应腔内气体进入隔离罩内部空间中与电阻丝（103）反应，通过电极柱（104）与电阻丝（103）相互配合的方式加热隔离罩内部空间中的惰性气体，加热后的电阻丝（103）配合隔离罩内部空间中加热后的惰性气体构成一个热源，隔离罩（102）远离反应腔底部的一端上支撑有导热垫（101），待加热元件放置在导热垫（101）上并通过所述热源产生的热辐射对待加热元件进行加热。

2.根据权利要求1所述的一种化学气相沉积用的反应装置，其特征在于：所述的反应腔进气口（108）中通入的反应气体流向与待加热元件的表面垂直。

3.根据权利要求1所述的一种化学气相沉积用的反应装置，其特征在于：所述的导热垫（101）底部设置有与隔离罩（102）相互匹配的卡槽结构，通过卡槽结构将导热垫（101）卡设在隔离罩（102）上。

4.根据权利要求1所述的一种化学气相沉积用的反应装置，其特征在于：所述的导热垫（101）采用石墨、氮化硼、氧化铝或者石英中的至少一种制成。

5.根据权利要求1所述的一种化学气相沉积用的反应装置，其特征在于：所述的惰性气体为氦气或氩气中的至少一种。