1.一种熏蒸装置，其特征在于，包括：

壳体，所述壳体上设有蒸汽出口和冷雾出口；

水箱，所述水箱与所述壳体相连，所述水箱具有出水口和进水口；

超声波装置，所述超声波装置与所述壳体相连且对应所述冷雾出口设置；

蒸汽发生装置，所述蒸汽发生装置连接至所述壳体，所述蒸汽发生装置包括加热腔室和用于对所述加热腔室内的水进行加热的加热器，所述加热腔室具有腔室进口和腔室出口，所述腔室进口与所述出水口连通，所述腔室出口对应所述蒸汽出口设置；

控制开关，所述控制开关分别与所述超声波装置和所述蒸汽发生装置相连以控制所述超声波装置和/或所述蒸汽发生装置运行。

2.根据权利要求1所述的熏蒸装置，其特征在于，还包括输送通道，所述输送通道的进水端与所述加热腔室连通，所述输送通道的出水端连接至所述超声波装置以使得所述超声波装置与所述水箱的出水口连通；

用于将所述输送通道内的水输送至所述超声波装置的输送件。

3.根据权利要求2所述的熏蒸装置，其特征在于，所述输送件为设在所述输送通道内的吸水海绵。

4.根据权利要求2所述的熏蒸装置，其特征在于，所述输送件为水泵。

5.根据权利要求1所述的熏蒸装置，其特征在于，所述水箱的出水口通过两条不同的水路与所述超声波装置和所述加热腔室连通。

6.根据权利要求1所述的熏蒸装置，其特征在于，所述水箱与所述壳体可拆卸连接，所述进水口和所述出水口为设在所述水箱上的同一个水口，所述水箱上设有打开或关闭所述水口的第一开关阀。

7.根据权利要求6所述的熏蒸装置，其特征在于，所述第一开关阀设在所述水口内，所述第一开关阀被构造成在重力作用下常关闭所述水口，所述壳体上设有对应所述水口设置的第一凸块，所述水箱设在所述壳体上时，所述第一凸块伸入到所述水口内顶起所述第一开关阀以打开所述水口。

8.根据权利要求1-7中任一项所述的熏蒸装置，其特征在于，所述水箱上设有进气口，所述水箱内设有与所述进气口连通的进气管道，所述进气管道的上端位于所述水箱的顶部，所述加热腔室内设有出气管道，所述出气管道的上端与所述进气口连通。

9.根据权利要求8所述的熏蒸装置，其特征在于，所述水箱与所述壳体可拆卸连接，所述水箱上设有打开或关闭所述进气口的第二开关阀。

10.根据权利要求9所述的熏蒸装置，其特征在于，所述第二开关阀设在所述进气口内，所述第二开关阀被构造成在重力作用下常关闭所述进气口，所述壳体上设有对应所述进气口设置的第二凸块，所述水箱设在所述壳体上时，所述第二凸块伸入到所述进气口内顶起所述第二开关阀以打开所述进气口。

11.根据权利要求1所述的熏蒸装置，其特征在于，所述蒸汽出口和所述冷雾出口位于同一平面上。

12.根据权利要求1所述的熏蒸装置，其特征在于，所述蒸汽出口和所述冷雾出口被构造成使得从所述蒸汽出口喷出的蒸汽和从所述冷雾出口喷出的雾气在所述壳体外发生碰撞。

13.根据权利要求1所述的熏蒸装置，其特征在于，所述壳体上设有提示模块，所述加热腔室内设有水位检测装置，所述水位检测装置与所述提示模块相连。

14.根据权利要求13所述的熏蒸装置，其特征在于，所述水位检测装置包括设置在不同高度的两个电极。

15.根据权利要求13所述的熏蒸装置，其特征在于，所述水位检测装置与所述控制开关相连，所述控制开关在所述水位检测装置检测到水位低于设定水位时控制所述加热器关闭。

16.根据权利要求1所述的熏蒸装置，其特征在于，还包括半导体制冷片，所述半导体制冷片设在所述超声波装置的远离所述冷雾出口的一侧。

17.根据权利要求1所述的熏蒸装置，其特征在于，所述控制开关控制所述超声波装置和所述蒸汽发生装置交替工作或者同时工作。

18.根据权利要求1所述的熏蒸装置，其特征在于，还包括负离子装置，所述负离子装置位于所述腔室出口和所述蒸汽出口之间以向从所述腔室出口排出的蒸汽注入负离子。