1.一种超薄钼酸镁纳米片阵列的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤1：将六水氯化镁与P123按照质量比(10-100):1混合配制成溶液A；

步骤2：将二水钼酸钠溶于乙二醇中配制成浓度为1-5毫摩尔/升的溶液B；

步骤3：将溶液A和B按照体积比2:(1-5)混合搅拌10-15分钟，移至反应釜中，密封，恒温水热反应5-10小时，水热反应温度为140-180℃，反应结束后产物真空抽滤、洗涤、干燥；

步骤4：将步骤3所得产物与异丙醇按照质量比为1：(10-30)混合配制成悬浊液，超声，静置，产物离心、洗涤、干燥，将所得钼酸镁纳米片在氩气气氛下煅烧1-3小时，煅烧温度为

400-700℃，得到超薄钼酸镁纳米片阵列。

2.根据权利要求1所述的一种超薄钼酸镁纳米片阵列的制备方法，其特征在于，所述步骤4超声时间为0.5-2小时。

3.根据权利要求1所述的一种超薄钼酸镁纳米片阵列的制备方法，其特征在于，所述步骤4静置时间为12-48小时。

4.根据权利要求1所述的一种超薄钼酸镁纳米片阵列的制备方法，其特征在于，所述钼酸镁纳米片阵列是由钼酸镁纳米片自组装而成，纳米片横截面直径为300-500nm，厚度为

10-15nm。