1.一种实现非对称传输的单层金纳米结构，其特征在于：所述结构由多个相同的结构单元上下、左右连接而成，所述结构单元为周期边长相等的单层结构，且所有结构单元均位于同一平面；所述结构单元包括第一横体（1）、第二横体（2）和第三横体（3），所述第一横体（1）、第二横体（2）和第三横体（3）相互平行，所述第二横体（2）与第一横体（1）和第三横体（3）的距离相等，且第一横体（1）、第二横体（2）和第三横体（3）的中心在同一条直线上；所述第一横体（1）和第三横体（3）的长度相等；所述第二横体（2）的长度小于第一横体（1）的长度；

还包括第二竖体（5），所述第二竖体（5）的两端分别与所述第一横体（1）和第三横体（3）连接，且与第一横体（1）和第三横体（3）相互垂直，所述第二竖体（5）穿过第二横体（2）的中心；在所述第二横体（2）的两端还有与第二横体（2）垂直连接的第一竖体（4）和第三竖体（6），所述第一竖体（4）向第一横体（1）的方向延伸，且未触及第一横体（1），所述第三竖体（6）向第三横体（3）的方向延伸，且未触及第三横体（3）；

所述第二横体（2）的长度与第一竖体（4）的宽度、第二竖体（5）的宽度之和小于第一横体（1）的长度；所述第一竖体（4）和第三竖体（6）的宽度相等；

所述第一竖体（4）与第三竖体（6）的长度不相等，所述结构的材料为金。

2.根据权利要求1所述的结构，其特征在于：第一竖体（4）和第三竖体（6）的宽度均为a1=57 70nm；第二竖体（5）的宽度a3=57 130nm；第一竖体（4）的长度为b1=70 180nm；第三竖体~ ~ ~（6）的长度为b3=70 180nm；第一横体（1）和第三横体（3）的宽度为b4=10 25nm；第二横体（2）~ ~的宽度为b5=70 135nm；第二横体（2）的长度为a2=140nm；第二竖体（5）的长度为b2=270nm；

~

周期边长Px=Py=300 400nm。

~

3.权利要求1或2所述的结构的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：步骤1，准备基底：准备ITO玻璃基底并清洗吹干；

步骤2，涂光刻胶：用甩胶机在步骤1准备好的ITO玻璃基底上涂覆PMMA光刻胶；

步骤3，涂胶后烘干：将步骤2涂覆PMMA光刻胶的基底放在热板上烘干；

步骤4，电子束曝光结构图形：用图形发生器设计权利要求1所述的结构图形，并用电子束曝光图形，得到曝光后的基底；曝光时，电子束对所述结构的图形部分的PMMA光刻胶进行刻蚀；

步骤5，显影：常温下，将步骤4中曝光好的基底放入显影液中浸泡显影；

步骤6，定影：将步骤5浸泡显影后的基底放入定影液中浸泡定影，定影完成后将基底取出，用氮气吹干；

步骤7，定影后烘干：将步骤6浸泡定影后并吹干的基底放在热板上烘干；

步骤8，镀金：将步骤7定影后烘干的基底放入电子束真空蒸发镀膜机镀金，蒸镀完冷却

10min～20min后再取出；

步骤9，剥离PMMA光刻胶：采用lift-off工艺，将步骤8真空镀金后的基底泡在丙酮中，时间至少为30min，溶解电子束PMMA光刻胶；

步骤10，吹干：用氮气枪吹干步骤9得到的剥离PMMA光刻胶后的基底，得到所述实现非对称传输的单层金纳米结构。

4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于：所述步骤1具体操作为：准备厚度为

1.0mm，长宽尺寸为20.0mm*20.0mm的ITO玻璃，并将准备的ITO玻璃放入洗涤液中清洗，用去离子水超声15min后，用丙酮超声15min，再用酒精超声15min，之后用去离子水超声5min，最后用氮气枪吹干后放入氮气柜中备用。

5.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于：所述步骤2中光刻胶的厚度为270nm，所述甩胶机的转速为4000rpm，时间为60 s。

6.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于：所述步骤3和步骤7中烘干的温度为

150℃，时间为3min。

7.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于：所述步骤5中浸泡显影的时间为60s。

8.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于：所述步骤5中显影液由四甲基二戊酮与异丙醇以体积比为3:1配合制成，浸泡显影的时间为60s。

9.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于：所述步骤8中真空蒸发镀膜机的真空度不大于3*10-6torr，蒸镀金的厚度为50nm。