1.一种基于锑纳米材料的电子产品用阻燃膜，其特征在于，包括：

基膜层，

第一阻燃膜层，其沉积在所述基膜层上，所述第一阻燃膜层为含有掺杂纳米银的纳米三氧化二锑颗粒，且所述第一阻燃膜层的厚度为0.06～0.1μm；

第二阻燃膜层，其沉积在所述第一阻燃膜层上，所述第二阻燃膜层为含有掺杂纳米三氧化二锑的氯化锑颗粒，且所述第二阻燃膜层的厚度为0.02～0.08μm；

其中，还包括多孔膜层，其位于阻燃膜的最内侧，所述多孔膜层具有双层空腔结构，其包括第一多孔膜层和第二多孔膜层，所述第一多孔膜层与所述第二多孔膜层之间具有0.1～0.25μm的空隙，空隙内填充有导热介质。

2.如权利要求1所述的基于锑纳米材料的电子产品用阻燃膜，其特征在于，所述基膜层为苯乙烯-丙烯腈共聚物树脂膜，所述基膜层的厚度为0.25～0.3μm。

3.如权利要求1所述的基于锑纳米材料的电子产品用阻燃膜，其特征在于，还包括第三阻燃膜层，其为纳米三氧化二锑颗粒，且所述第三阻燃膜层的厚度为0.03～0.07μm，所述第三阻燃膜层沉积在所述第二阻燃膜层上。

4.如权利要求1所述的基于锑纳米材料的电子产品用阻燃膜，其特征在于，所述纳米三氧化二锑颗粒的平均粒径为55～85nm。

5.如权利要求1所述的基于锑纳米材料的电子产品用阻燃膜，其特征在于，导热介质为导热纳米级硅脂和/或导热石墨，其中纳米级硅脂和/或导热石墨的纳米颗粒平均粒径为75～105nm。

6.如权利要求1所述的基于锑纳米材料的电子产品用阻燃膜，其特征在于，所述基膜层、第一阻燃膜层、第二阻燃膜层依次涂覆在所述第二多孔膜层上。

7.一种制备如权利要求1～6任一项所述的基于锑纳米材料的电子产品用阻燃膜的方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤一、将含有掺杂纳米银的纳米三氧化二锑颗粒与粘合剂按质量比为100﹕1～230﹕1混合均匀后沉积在基膜层上形成第一阻燃膜层；

步骤二、将掺杂纳米三氧化二锑的氯化锑颗粒与粘合剂按质量比为50﹕1～150﹕1混合均匀后沉积在所述步骤一形成的第一阻燃膜层上形成第二阻燃膜层；

步骤三、将上述形成的复合膜包覆在第二多孔膜层上形成基于锑纳米材料的电子产品用阻燃膜。

8.如权利要求7所述的方法，其特征在于，所述步骤二与步骤三之间还包括步骤：将纳米三氧化二锑颗粒与粘合剂按质量比为200﹕1～250﹕1混合均匀后沉积在第二阻燃膜层上形成第三阻燃膜层。

9.如权利要求7所述的方法，其特征在于，所述粘合剂为聚氨酯。