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专利号: 2017103412280
申请人: 浙江理工大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 织造
更新日期:2024-11-06
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种基于影光组织的高花效果提花织物设计和织造方法,其特征在于采用不同粗细纬纱进行比例配置,并设计与之对应的全遮盖结构,织物表面兼具影光渐变视觉效果和凹凸立体高花触觉效果,步骤是(1)图案设计,(2)经纬纱线配置设计,(3)显色组织、背衬组织及高花组织设计,(4)全遮盖技术点设计,(5)显色组织库设计,(6)显色组织库组织、背衬组织及高花组织的组合应用,(1)图案设计

图案为位图模式数码图案,分高花图层和地部影光渐变图层两个图层,通过两个图层叠加得到完整的数码图案,图案题材不限;

(2)经纬纱线配置设计

采用一组经线和两组纬线的经纬组合方式,两组纬线粗细不同,较细的纬线为甲纬,用于设计地部影光渐变部分;较粗的纬线为乙纬,用于设计高花凸起部分;

(3)显色组织、背衬组织及高花组织设计

①以缎纹原组织为基础设计显色组织A,飞数为S,经、纬组织循环相同为R;

②背衬组织B的组织循环数为显色组织A的整倍数,其经、纬组织循环可相同,也可不同,背衬组织B的经纱循环为P,其飞数计算公式为nS-mP,其中n为甲纬的排列比,n取正整数,S为显色组织A的飞数,m=0,1,2......,组织A、B沿纬向n:1排列,固定显色组织A不变,通过组织点位移获得能被显色组织A完全遮盖的背衬组织B;

③高花组织C为纬面缎纹,组织循环数为显色组织A的整数倍;

(4)全遮盖技术点设计

根据背衬组织B的组织特征及甲乙纬纱排列比,对显色组织A进行全遮盖技术点的设定,方法是将甲乙纬n:1排列,固定乙纬的纬组织点,将乙纬纬组织点相邻两甲纬的相应位置均设置为纬组织点,再根据显色组织的组织点排列规律对甲纬进行排列得到显色组织的全遮盖技术点;

(5)显色组织库设计

在始终保持全遮盖技术点为纬组织点的情况下,对显色组织A设计一组影光组织,称为显色组织库,当影光组织组织点加强数等于R时,组织库数目最小,为(R-J)个,

当影光组织组织点加强数等于1时,组织库数目最大,为(R-J)+(R-3)(R-1)个,R表示显色组织A的组织循环数,J为一个组织循环内一根纬纱上的全遮盖技术点数;

(6)显色组织库组织、背衬组织及高花组织的组合应用

根据步骤(1)、(3)、(5)得到的数码图案、显色组织库、背衬组织及高花组织,对数码图案地部影光渐变部分进行去色处理成灰度图像并进行灰度数量的归纳,①数码图案地部影光渐变部分有一组影光色,将数码图案中地部影光渐变部分进行去色处理成灰度图像,灰度级别要小于或等于最大影光组织数,即不超过最大色彩数(R-J)+(R-3)(R-1),②甲纬、乙纬沿纬向n:1排列,地部影光渐变部分,将灰度图像中黑色到白色与显色组织库中的纬面到经面组织进行一一替换,得到地部影光渐变部分的织物结构图,随后在高花部分,铺入高花组织,得到完整的高花提花织物组合结构图,③用显色组织库的第一个组织和最后一个组织分别与背衬组织进行组合,当满足显色组织在织物表面渐变显色时,背衬组织背衬不显色,将高花提花织物结构图加上选纬信息,设定经纬密度,选择一组纱线做经线,两组粗细不同的纱线做纬线,即可进行以影光组织为基础的高花效果提花织物织造。