1.一种在水槽中同步建立不同线性梯度温度场的实验装置，在底座(8)上设置有透明水槽(6)和多路温度测试仪(7)，透明水槽(6)内的左侧壁上设置安装有半导体制冷片(2)的半导体制冷片支架(1)，半导体制冷片支架(1)和半导体制冷片(2)浸入透明水槽(6)内的水中，其特征在于：在半导体制冷片(2)与透明水槽(6)内右侧壁之间的前侧壁和后侧壁上依次设置有与透明水槽(6)内底部保持有距离的第一隔板(3)、第二隔板(4)、第三隔板(5)。

2.根据权利要求1所述的在水槽中同步建立不同线性梯度温度场的实验装置，其特征在于：所述的第一隔板(3)、第二隔板(4)、第三隔板(5)的高度为19～25cm，第一隔板(3)、第二隔板(4)、第三隔板(5)与水平面垂直，第一隔板(3)、第二隔板(4)、第三隔板(5)的水平中心线与半导体制冷片(2)的水平中心线在同一水平平面内。

3.根据权利要求1或2所述的在水槽中同步建立不同线性梯度温度场的实验装置，其特征在于：所述的第一隔板(3)、第二隔板(4)、第三隔板(5)的高度由大到小排列或由小到大排列或相等。

4.根据权利要求1或2所述的在水槽中同步建立不同线性梯度温度场的实验装置，其特征在于：所述的第一隔板(3)、第二隔板(4)、第三隔板(5)中高度最大的一块隔板的下端面与透明水槽(6)内底面的距离至少为1cm，其余两块隔板下端面与透明水槽(6)内底面的距离大于或等于高度最大的一块隔板的下端面与透明水槽(6)内底面的距离。

5.根据权利要求3所述的在水槽中同步建立不同线性梯度温度场的实验装置，其特征在于：所述的第一隔板(3)、第二隔板(4)、第三隔板(5)中高度最大的一块隔板的下端面与透明水槽(6)内底面的距离至少为1cm，其余两块隔板下端面与透明水槽(6)内底面的距离大于或等于高度最大的一块隔板的下端面与透明水槽(6)内底面的距离。