1.一种单连接线电沉积钨涂层的方法,其特征在于:包括以下步骤:
1)熔盐配置:熔盐中钨酸钠和三氧化钨摩尔比为3:1,按比例将钨酸钠和三氧化钨混合均匀后放入碳化硅石墨坩埚中,碳化硅石墨坩埚置于带有不锈钢密封釜体内,在坩埚电阻炉中加热到指定温度,并通入保护气体氩气;
2)连接电极:在上述熔盐中,阳极钨直接放入坩埚底部,不锈钢釜直接和阳极电源连接,仅使用单导线连接阴极基体,与阴极电源连接;
3)电沉积:在氩气气氛中,温度为900℃下,采用电沉积工艺电镀得到钨镀层,其中电流-2密度为5-100mA·cm ,电沉积时间0.5-10h;
4)取出样品:电沉积后,从熔盐去提出阴极,并随炉冷却,冷却后的样品经5M NaOH溶液超声清洗60min,除去表面附着的杂质盐,得到金属钨涂层,所述的基体为304、316不锈钢板或钼块;所述的阳极钨为规则块体、不规则块体或碎片;所述的阳极钨的质量为5g-30g ;所述的连接线为高温镍合金丝。
2.根据权利要求1所述的单连接线电沉积钨涂层的方法,其特征在于:所述高温镍合金丝的直径为1mm。