1.一种表面增强拉曼散射基底的制备方法，其特征在于：所述拉曼散射基底包括导电衬底（1）、二维贵金属微纳结构阵列（2）和金纳米星（3），二维贵金属微纳结构阵列（2）单元为星形贵金属薄膜，金纳米星（3）通过电泳沉积在二维贵金属微纳结构阵列（2）的各星形单元的尖端；

制备方法包括以下步骤：

①在导电衬底（1）上制备含有二维星状微纳结构阵列图案的光刻层；

对导电衬底（1）进行清洗、烘干、旋涂一层光刻胶（11）；对光刻胶（11）进行软烘；将掩模板对准导电衬底（1），进行曝光；曝光后进行后烘，后烘结束后进行显影，从而导电衬底（1）的表面具有二维星状微纳结构阵列图案的光刻层（12）；所述掩模版上设有呈阵型排列的星状微纳结构，星状微纳结构为透光区域，掩模版的其余部分为非透光区域；各个星状微纳结构的尺寸为150nm～1000nm，相邻的两个星状微纳结构之间的间距为10nm～500nm；

②在导电衬底（1）上制备二维贵金属微纳结构阵列；

将步骤①制备的具有二维星状微纳结构阵列图案的光刻层（12）的导电衬底（1）转移到真空热蒸发镀膜设备的镀膜室镀膜，选择金为蒸发源材料，镀膜后在光刻层（12）和二维星状微纳结构阵列图案上形成一层极薄的金纳米薄膜（13）；蒸镀时控制金纳米薄膜（13）的厚度小于光刻胶（11）的厚度；

将镀膜后的导电衬底（1）放置在剥离溶液中，去除导电衬底（1）上剩余的光刻胶，在去除这部分光刻胶时，沉积在其上的金纳米薄膜也被去除，最终在导电衬底（1）的表面留下二维贵金属微纳结构阵列（2）；

③制备含有金纳米星颗粒的溶液；向浓度为0.08～0.12mol/L的十六烷基三甲基溴化铵溶液中添加0.008～0.012mol/L的金氯酸溶液和0.008～0.012mol/L的硼氢化钠溶液，得到金种子溶液待用，其中十六烷基三甲基溴化铵溶液∶金氯酸溶液∶硼氢化钠溶液的体积比为7.5～8.5∶0.1～0.3∶0.4～0.6；

在烧杯中依次添加0.08～0.12mol/L十六烷基三甲基溴化铵溶液、0.008～0.012mol/L的金氯酸溶液、0.008～0.012mol/L的抗坏血酸溶液以及0.008～0.012的硝酸银溶液形成生长溶液待用，其中十六烷基三甲基溴化铵溶液∶金氯酸溶液∶抗坏血酸溶液∶硝酸银溶液的体积比为45～50∶2∶0.30～0.35∶0.2～0.4；

取上述制备的金种子溶液滴入上述制备的生长溶液中，搅拌均匀，静置12～24h后得到含有金纳米星颗粒的溶液（31）；金种子溶液与生长溶液的体积比为1∶800～1200；

④金纳米星颗粒的电泳沉积；

将步骤②制备的具有二维贵金属微纳结构阵列（2）的导电衬底（1）作为直流电极的负极，放入步骤③制备含有金纳米星颗粒的溶液中，其中二维贵金属微纳结构阵列（2）浸没在溶液中；将金属板作为正电极（32）也放入步骤③制备的含有金纳米星颗粒的溶液中，将正极、负极接通直流电源，在直流电源（33）提供的电场作用下，金纳米星（3）沉积在二维贵金属微纳结构阵列（2）中的各星形单元的尖端区域，电泳结束取出负极板即得到高灵敏度表面增强拉曼散射基底。

2.根据权利要求1所述的表面增强拉曼散射基底的制备方法，其特征在于：步骤②导电衬底（1）转移到真空热蒸发镀膜设备的镀膜室后，将导电衬底（1）具有二维星状微纳结构阵列图案的一面朝向蒸发源，导电衬底（1）的光刻层（12）与蒸发源距离为40cm～50cm ；对热蒸镀镀膜腔抽真空时，使腔内气压降到10-4帕斯卡为止；镀膜时金的沉积速度为0.1nm/s。

3.根据权利要求1所述的表面增强拉曼散射基底的制备方法，其特征在于：步骤④电泳沉积时，设置直流电源的电压为4.5V～6V，电泳时间2～60分钟。

4.根据权利要求1至3之一所述的表面增强拉曼散射基底的制备方法，其特征在于：步骤①曝光时使用的掩模版上各个星状微纳结构为三角星形、四角星形、五角星形、六角星形、七角星形、八角星形、九角星形或十角星形。